2016年9月15日--半導體測試設備領導廠商愛德萬測試將於第42屆國際微米及奈米工程研討會(MNE)的第25號攤位上，展示其F7000電子光束微影系統。大會將在9月19-23日奧地利維也納的Reed Messe Wien展覽中心舉辦。
F7000電子光束微影系統不僅能提供高產量，並能以1Xnm的解析度在晶圓上投射出非常精準且平滑的奈米圖案。F7000的直接寫入技術使它十分適合作為研發設計工具，以及大型積體電路晶片(LSI)生產線上的解決方案，進行多樣少量的裝置生產。F7000系統的特徵投射(Character Projection)技術，不論在原型製造或生產上都可提供相當高的產量。
愛德萬測試的奈米科技解決方案產品組合，還包括可分別為晶圓、光罩提供即時3D測量與成像功能的E3310以及E3640多視角量測掃描式電子顯微鏡(MVM-SEM)系統。[U1]在三閘極(Tri-Gate)製程方面，E3310晶圓MVM-SEM大幅提高了大量生產的效率。E3640光罩MVM-SEM系統的圖案測量功能於業界名列前茅，並可為標準光罩、極紫外光(EUV)光罩與奈米壓印(NIL)模板等應用帶來高產量。
E5610光罩缺陷檢測掃描電子顯微鏡(DR-SEM)是專為檢查、分類次世代光罩及空白片上的極小缺陷所設計。E5610系統擁有高度穩定、全自動的影像擷取功能，並具備關鍵光罩製造分析所需的長期操作穩定性及可靠度。
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MVM-SEM為Advantest Corporation在日本、美國及其他國家/地區的註冊商標或商標。
關於愛德萬測試
愛德萬測試是世界知名的半導體自動測試設備領導供應商，專為電子設備與系統設計與製造廠商提供首屈一指量測設備。現今全球最先進半導體生產線均採用該公司領先業界的系統與產品。此外，該公司亦深耕奈米和太赫茲 (terahertz) 技術的發展，積極開發新興市場，近日更推出攸關光罩製造的多視角量測掃描式電子顯微鏡，以及突破現有技術限制的3D成像暨分析工具。該公司在1954年於東京成立，並在1982年於美國成立第一家子公司，迄今子公司遍佈全球。進一步資訊請至公司網站www.advantest.com。
