全球領先的EDA電子自動化廠商─Mentor Graphics 明導國際將在5月11號 (星期四) 上午9:00至中午12:30假新竹國賓大飯店舉行 Calibre xRC研討會,會中將針對65nm以及RF design兩個重要的應用領域來介紹如何克服寄生參數萃取問題的挑戰。
Calibre xRC是Mentor Graphics萃取寄生參數 (parasitic extraction)問題的突破性工具,其萃取引擎可提供必要的精確度和萃取效能。Calibre xRC本身也提供一個完整流程,可將重點放在所選擇的必要資料,並可產生多種不同的網表格式資料,以便支援不同的後佈局分析工具。
這次研討會特別邀請到Mentor Graphics (明導國際)美國總部技術行銷顧問Dusan Petranovic 做說明。Dusan曾於美國加州克萊爾門(Claremont) 的哈魏穆得學院(Harvey Mudd College)任教六年,也曾經在聖塔克拉克大學(Santa Clara University)教授研究所課程。1997年至2003年期間,他加入LSI Logic Advanced Development Laboratory成為其技術幕僚的一員,於LSI’s Process R&D部門,負責高速數位迴路設計的連接模組設計。他目前任職於Mentor Graphics Design to Silicon group 以及Santa Clara University 的奈米結構(Nanostructures)中心。
本活動完全免費,會後,Mentor Graphics更為您準備了精緻美味的餐點供您享用,還有機會抽中超炫飛利浦數位相框! 現場座位有限,歡迎業界菁英共襄盛舉。活動相關細節,請參考:http://mentor.my-event.net/default.html
關於Mentor Graphics
明導國際為電子設計自動化領導廠商,創立於1981年,全球員工超過3850人,致力3於為電子設計業者提供快捷高效的PCB與IC設計解決方案,協助客戶面對與日俱增的設計挑戰和市埸壓力。明導國際深耕亞太市埸多年,目前在台灣、韓國、中國大陸及新加坡均設有分公司,同時也於2000年將亞太區總部設立於台灣,希望能藉助台灣經驗協助中國市場的開拓。公司總部位於美國奧勒岡州(Oregon),全球資訊網網址:
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