羅門哈斯針對先進CMP應用推出新款研磨墊產品

半導體產業之化學機械研磨技術領先與創新廠商--羅門哈斯電子材料公司CMP Technologies事業部，宣佈兩組新產品，其中包括VisionPad™研磨墊系列的多款新產品和全新的IC1000™ AT系列研磨墊。這些新產品可滿足先進半導體製造商持續提升化學機械研磨製程 (CMP) 技術和生產力的要求，同時為90奈米到45奈米的研磨應用提供各種不同選擇。

新產品包括多款專為先進製程而設計的VisionPad化學機械研磨墊，可進一步強化在2005年推出的VisionPad VP3100產品陣容。新研磨墊包括：
• VisionPad VP3200銅阻障層研磨墊 - 深受業界歡迎的VP3100研磨墊系列新產品，可大幅降低缺陷率
• VisionPad銅阻障層平坦化研磨墊 - 利用降低缺陷率，達到IC1000的平坦化效能
• EcoVision™ EV4000銅阻障層研磨墊 - 業界最低的缺陷率
• VisionPad淺溝槽隔離(STI)研磨墊 - 利用降低缺陷率，達到IC1000的平坦化效能

羅門哈斯電子材料公司CMP Technologies事業部技術副總裁Cathie Markham表示：「新的VisionPad研磨墊產品為量產和製程開發應用提供世界級的低缺陷率、卓越的平坦化表現和更長的產品壽命以延長設備運轉時間。舉例來說，VisionPad淺溝槽隔離研磨墊可在不影響平坦化效果的情況下將缺陷率降低50%，而EcoVision EV4000則能將銅阻障層的製程瑕疵率減少達一個數量級(an order of magnitude)。」

除此之外，羅門哈斯電子材料公司還推出全新的IC1000 AT系列研磨墊，這款新產品透過多項創新的研磨墊功能來降低現有高產量製程的缺陷率和持有成本。這些功能包括可縮短磨合期 (break-in time) 的超平坦設計、提高研磨偵測終點的穩定性 (end-point) 技術、可用於極端製程條件的新黏著技術，以及能夠延長產品壽命、進行邊緣修正 (edge correction) 和減少缺陷率的獨家溝槽設計。

羅門哈斯電子材料公司CMP Technologies事業部研磨墊行銷總監David Ventura進一步指出:「新的VisionPad和IC1000 AT系列是羅門哈斯歷來最重要的研磨墊產品，同時也展現我們致力協助客戶達到新興技術和現有技術嚴苛要求的承諾。這些產品將由我們位於台灣的亞太製造與技術中心和在美國的現有工廠，採用六標準差方法的品質與流程控管來進行生產製造與提供支援。」

羅門哈斯電子材料公司的所有新研磨墊產品將在台灣半導體設備暨材料展 SEMICON Taiwan 2006 會場中展示(世貿一館1146號展覽攤位)。IC1000 AT化學機械研磨墊可望在2007年第一季量產，而新的VisionPad系列產品則將陸續在今年第四季和明年第一季量產。此外，羅門哈斯電子材料公司在新竹科學園區新設立的CMP Technologies亞太製造與技術中心預計2006年12月開幕啟用。新研磨墊產品目前提供限量的樣本供應計劃。

關於羅門哈斯電子材料公司
羅門哈斯電子材料公司 (Rohm and Haas Electronic Materials) 專為電子和光電產業研發與供應創新的材料解決方案和製程，主要客戶包括電路板、半導體製造和先進封裝等產業，公司產品和技術已於世界各地廣泛應用並成為電子元件不可或缺的一環。

CMP Technologies事業部(前身為Rodel) 自1969年起即成為全球半導體產業的研磨技術領導者和創新廠商，其產品包括研磨墊、研磨墊調節器 (conditioner) 和研磨液。CMP Technologies總部位於美國亞利桑納州鳳凰市，業務範圍遍及全球各地，公司還在美國德拉瓦州的紐華克 (Newark, Delaware) ，以及日本的三重縣和奈良縣設有工廠。如需進一步資料，請至以下網站查詢：http://electronicmaterials.rohmhaas.com。