45奈米，技術突破的關鍵人物，台積電資深處長林本堅（Dr. Burn Lin）這回會怎麼面對20奈米的挑戰？
圖說：20奈米曝光技術面臨瓶頸，兩大技術陣營端出的解決方案，到底台積電資深處長林本堅（Dr. Burn Lin）會點什麼菜？
2010 Semicon Taiwan開展前，台積電資深處長林本堅談到，未來20奈米世代的半導體製程，於曝光技術，所面臨的嚴峻挑戰。他在談話中，多次強調 “Cost” 這個字，技術追求前瞻之外，成本，是他最大的考量。
林本堅說，半導體製程進入20奈米世代之後，曝光機台沒有辦法解析精微的圖像，因此衍生很多商機。一個辦法是，用著現成的曝光設備，透過拆解成兩個、或三個光罩，把高解析度做出來。這個作法的邏輯很簡單，但很貴，價錢會高到2-3倍，大家買不起。
回顧45奈米世代的難題出現時，林本堅於2002年就想出了解法。他在2002年一場國際技術研討會上發表「以水為透鏡，在晶圓與光源間注入純水」的理論，驚豔全球。隨後微影設備廠ASML於2004年依照林本堅的理論開發出設備，台積電（TSMC）於2007年9月，45奈米製程正式量產，這項技術的突破，正是關鍵！這類機台被賦予的名字：浸潤式微影設備，其發明者，正是林本堅。
目前針對曝光設備面臨20奈米世代的瓶頸，有二大技術流派出現。一派是「極紫外光」（EUV）技術，另一派則轉彎走不同的路，強調不用光罩的「無光罩多重電子束」（Multiple ebeam maskless system）技術。
林本堅表示，這兩派技術面臨共同的考驗在於，製造能力與成本優勢。做得出來還不夠，還要能夠以夠經濟的成本，做出來。
分析兩大技術陣營，所衍生的商機。林本堅說，相較之下，「極紫外光」（EUV）陣營可以參加的供應商比較多。包括：微影設備、光源、光阻劑，平坦度及偵錯設備等。他指出，微影設備一台造價起碼要七、八千萬美元，目前EUV陣營的研發經費已經高達10幾億歐元。在光源方面，極紫外光的學問很大，投入了許多高能量物理的專家，一個燈泡，就要幾千萬美元。
不同的光源，也要不同的光阻劑，所以，過去一加侖幾千美元的光阻劑，為了搭配EUV光源，特別開發的EUV光阻劑，可能要上萬美元。林本堅說，光阻劑價格會變成這麼高，除了材料成本外，最主要是他們在研發階段就已經要買造價 七、八千萬美元的微影設備來做研發，所以，把研發成本一攤提，這EUV光阻劑的造價就墊高了。
另一個商機，林本堅說，在20奈米世代，光罩的平坦度，要比現在更平坦10倍以上，所以，平坦化機台也有機會。最後，採用EUV光源進行檢查與修理，這也給檢測設備帶來了商機。
相較於EUV技術陣營，強調不用光罩的「無光罩多重電子束」技術這一派，沒有光罩，光阻劑開發也不必先買昂貴的微影設備，給設備與材料商帶來的商機，似乎比較少。
但這派技術又衍生另外一個商機，林本堅認為，這是電腦做得很好的台灣，很大的優勢所在。他表示，上萬的電子束，產生巨量的資料，需要精確掌控資料的傳遞。林本堅說，這個工作不得了，原本一台PC所做的事，要乘上幾萬倍。
比較起來，「無光罩多重電子束」技術如果真正能夠量產，似乎比較合乎成本效益。過去，為了延續摩爾定律，半導體產業逐漸發展出了許多昂貴的技術手法。未來，如果能夠以摩爾定律的元件，自己延續摩爾定律，當「下一代 (技術) 變得貴一點，但電子又便宜一點，這個比較有希望」，林本堅說。
從林本堅腦中想出解法，到台積電製程真正上線，45奈米世代，費時 5 年。這一回，20奈米的難關，會怎麼突破？大家都在看，太空梭與直昇機，林本堅「會點什麼菜」？
《哇-People！》林本堅小檔案：
* 越南，華人村長大，家境優渥
* 母親送的相機，開啟對「光」的好奇
* 拍照技術一流，替女友拍照，締結良緣
* 高三到台灣，就讀新竹中學
* 台大電機系畢
* 美國俄亥俄州立大學博士（雷射研究）
* IBM任職20多年，2000年被台積電延攬
* 2002年發明浸潤式微影技術，名聞全球
* 2004年獲台積電董事長張忠謀頒獎表揚傑出貢獻
* 虔誠基督徒，想讀神學院
圖說：20奈米曝光技術面臨瓶頸，兩大技術陣營端出的解決方案，到底台積電資深處長林本堅（Dr. Burn Lin）會點什麼菜？
2010 Semicon Taiwan開展前，台積電資深處長林本堅談到，未來20奈米世代的半導體製程，於曝光技術，所面臨的嚴峻挑戰。他在談話中，多次強調 “Cost” 這個字，技術追求前瞻之外，成本，是他最大的考量。
林本堅說，半導體製程進入20奈米世代之後，曝光機台沒有辦法解析精微的圖像，因此衍生很多商機。一個辦法是，用著現成的曝光設備，透過拆解成兩個、或三個光罩，把高解析度做出來。這個作法的邏輯很簡單，但很貴，價錢會高到2-3倍，大家買不起。
回顧45奈米世代的難題出現時，林本堅於2002年就想出了解法。他在2002年一場國際技術研討會上發表「以水為透鏡，在晶圓與光源間注入純水」的理論，驚豔全球。隨後微影設備廠ASML於2004年依照林本堅的理論開發出設備，台積電（TSMC）於2007年9月，45奈米製程正式量產，這項技術的突破，正是關鍵！這類機台被賦予的名字：浸潤式微影設備，其發明者，正是林本堅。
目前針對曝光設備面臨20奈米世代的瓶頸，有二大技術流派出現。一派是「極紫外光」（EUV）技術，另一派則轉彎走不同的路，強調不用光罩的「無光罩多重電子束」（Multiple ebeam maskless system）技術。
林本堅表示，這兩派技術面臨共同的考驗在於，製造能力與成本優勢。做得出來還不夠，還要能夠以夠經濟的成本，做出來。
分析兩大技術陣營，所衍生的商機。林本堅說，相較之下，「極紫外光」（EUV）陣營可以參加的供應商比較多。包括：微影設備、光源、光阻劑，平坦度及偵錯設備等。他指出，微影設備一台造價起碼要七、八千萬美元，目前EUV陣營的研發經費已經高達10幾億歐元。在光源方面，極紫外光的學問很大，投入了許多高能量物理的專家，一個燈泡，就要幾千萬美元。
不同的光源，也要不同的光阻劑，所以，過去一加侖幾千美元的光阻劑，為了搭配EUV光源，特別開發的EUV光阻劑，可能要上萬美元。林本堅說，光阻劑價格會變成這麼高，除了材料成本外，最主要是他們在研發階段就已經要買造價 七、八千萬美元的微影設備來做研發，所以，把研發成本一攤提，這EUV光阻劑的造價就墊高了。
另一個商機，林本堅說，在20奈米世代，光罩的平坦度，要比現在更平坦10倍以上，所以，平坦化機台也有機會。最後，採用EUV光源進行檢查與修理，這也給檢測設備帶來了商機。
相較於EUV技術陣營，強調不用光罩的「無光罩多重電子束」技術這一派，沒有光罩，光阻劑開發也不必先買昂貴的微影設備，給設備與材料商帶來的商機，似乎比較少。
但這派技術又衍生另外一個商機，林本堅認為，這是電腦做得很好的台灣，很大的優勢所在。他表示，上萬的電子束，產生巨量的資料，需要精確掌控資料的傳遞。林本堅說，這個工作不得了，原本一台PC所做的事，要乘上幾萬倍。
比較起來，「無光罩多重電子束」技術如果真正能夠量產，似乎比較合乎成本效益。過去，為了延續摩爾定律，半導體產業逐漸發展出了許多昂貴的技術手法。未來，如果能夠以摩爾定律的元件，自己延續摩爾定律，當「下一代 (技術) 變得貴一點，但電子又便宜一點，這個比較有希望」，林本堅說。
從林本堅腦中想出解法，到台積電製程真正上線，45奈米世代，費時 5 年。這一回，20奈米的難關，會怎麼突破？大家都在看，太空梭與直昇機，林本堅「會點什麼菜」？
《哇-People！》林本堅小檔案：
* 越南，華人村長大，家境優渥
* 母親送的相機，開啟對「光」的好奇
* 拍照技術一流，替女友拍照，締結良緣
* 高三到台灣，就讀新竹中學
* 台大電機系畢
* 美國俄亥俄州立大學博士（雷射研究）
* IBM任職20多年，2000年被台積電延攬
* 2002年發明浸潤式微影技術，名聞全球
* 2004年獲台積電董事長張忠謀頒獎表揚傑出貢獻
* 虔誠基督徒，想讀神學院
