純快閃記憶體解決方案供應商Spansion宣布開始在其位於日本的Spansion 1(SP1)晶圓廠採用MirrorBit®技術於300mm晶圓上生產65nm產品，並計劃於年底向客戶大量供貨。為慶祝此一盛事，Spansion特地在SP1廠舉行隆重的慶祝活動。SP1是全球第一座300mm NOR晶圓廠，對Spansion生產領先的差異化快閃記憶體解決方案的策略具有重要意義。在活動中，Spansion高層管理團隊展示了採用MirrorBit技術的65nm工作晶片並帶領來賓參觀晶圓廠。
SP1晶圓製造廠是Spansion成為獨立的公司以來所建立的第一家工廠。Spansion將原計畫12億美元中的大部分資金投資於建造SP1並購買設備。Spansion預計，這項投資將帶來每月15,000-20,000片300mm晶圓的產能。隨著投資的擴大，未來更可擴充至每月30,000 - 40,000片。Spansion計畫在SP1生產MirrorBit Eclipse™等先進產品，並於2008年生產45nm產品。SP1與Spansion另一家工廠JV3都位於日本會津，並與JV3共用員工和設施等部分資源。
Spansion總裁暨執行長Bertrand Cambou表示︰「我們正按計畫在300mm晶圓上逐步將MirrorBit技術升級至45nm。藉由新一代的工廠設施以及MirrorBit技術所帶來的成本與技術優勢，我們一定能實現承諾，為客戶創造更多價值並重新定義快閃記憶體產業。」
從研發到生產
Spansion已在位於矽谷的MirrorBit技術研發中心Submicron development Center (SDC)展開300mm晶圓的研發工作。65nm MirrorBit技術製程就是在該中心開發的，現已轉移到SP1準備開始量產。目前該中心正全力在300 mm晶圓上開發45nm產品，計劃在2008年於SP1廠實現該技術。在加州，Spansion是唯一一家進行300mm NOR快閃記憶體研發的公司。
MirrorBit技術
採用MirrorBit技術所獲得的產量比傳統浮動閘門NOR技術的產量高，而且更容易擴展到更高的容量。與浮動閘門NOR技術相比，MirrorBit技術具有更簡單的記憶格，可減少所需的關鍵製造步驟。因此MirrorBit技術可以以較低的晶圓總成本進行生產。
Spansion訂定了雄心勃勃的製程技術發展藍圖，每年突破一個新的節點。Spansion在其所有晶圓廠採用MirrorBit技術，因此能夠達成程式碼和數據儲存解決方案的高效生產。
Spansion的晶圓廠產能包括︰
Spansion位於日本會津若松市的SP1 300mm晶圓廠，生產65nm和45nm MirrorBit產品。
Spansion位於美國德克薩斯州奧斯汀市Fab 25晶圓廠，生產90nm和將來的65nm MirrorBit產品。
Spansion位於日本會津若松市的JV3工廠，生產110nm MirrorBit產品。這是Spansion主要的內部鋁製造廠（internal aluminum fab）。
與TSMC建立代工關係以生產採用MirrorBit技術的110nm及90nm產品，以在需求尖峰期間提供產能保障。
與富士通建立代工關係，生產320nm、230nm和200nm的MirrorBit及/或浮動閘門鋁製金屬層產品，主要是為了滿足消費性電子、機上盒和工業產品事業部（CSID）的需求。
SP1介紹
廠房架構︰三層建築
占地面積︰123,515m2 (SP1 + JV3)
建築面積︰36,482m2
無塵室面積︰13,800m2
開始生產日期︰9月18日
生產產品︰於2007年生產65nm的MirrorBit產品，於2008年生產45nm的MirrorBit產品
地址︰2, Takaku-Kogyodanchi, Aizuwakamatsu-shi, Fukushima, 965-0060
總經理︰Mikio Suetake
工廠員工人數︰約950名全職員工(SP1 + JV3)
Spansion在日本
Spansion日本公司約有2,000名員工，日本總部位於川崎市，SP1和JV-3晶圓廠位於會津市，設計中心靠近名古屋市。Spansion日本公司透過富士通的銷售管道為日本市場提供服務。
SP1晶圓製造廠是Spansion成為獨立的公司以來所建立的第一家工廠。Spansion將原計畫12億美元中的大部分資金投資於建造SP1並購買設備。Spansion預計，這項投資將帶來每月15,000-20,000片300mm晶圓的產能。隨著投資的擴大，未來更可擴充至每月30,000 - 40,000片。Spansion計畫在SP1生產MirrorBit Eclipse™等先進產品，並於2008年生產45nm產品。SP1與Spansion另一家工廠JV3都位於日本會津，並與JV3共用員工和設施等部分資源。
Spansion總裁暨執行長Bertrand Cambou表示︰「我們正按計畫在300mm晶圓上逐步將MirrorBit技術升級至45nm。藉由新一代的工廠設施以及MirrorBit技術所帶來的成本與技術優勢，我們一定能實現承諾，為客戶創造更多價值並重新定義快閃記憶體產業。」
從研發到生產
Spansion已在位於矽谷的MirrorBit技術研發中心Submicron development Center (SDC)展開300mm晶圓的研發工作。65nm MirrorBit技術製程就是在該中心開發的，現已轉移到SP1準備開始量產。目前該中心正全力在300 mm晶圓上開發45nm產品，計劃在2008年於SP1廠實現該技術。在加州，Spansion是唯一一家進行300mm NOR快閃記憶體研發的公司。
MirrorBit技術
採用MirrorBit技術所獲得的產量比傳統浮動閘門NOR技術的產量高，而且更容易擴展到更高的容量。與浮動閘門NOR技術相比，MirrorBit技術具有更簡單的記憶格，可減少所需的關鍵製造步驟。因此MirrorBit技術可以以較低的晶圓總成本進行生產。
Spansion訂定了雄心勃勃的製程技術發展藍圖，每年突破一個新的節點。Spansion在其所有晶圓廠採用MirrorBit技術，因此能夠達成程式碼和數據儲存解決方案的高效生產。
Spansion的晶圓廠產能包括︰
Spansion位於日本會津若松市的SP1 300mm晶圓廠，生產65nm和45nm MirrorBit產品。
Spansion位於美國德克薩斯州奧斯汀市Fab 25晶圓廠，生產90nm和將來的65nm MirrorBit產品。
Spansion位於日本會津若松市的JV3工廠，生產110nm MirrorBit產品。這是Spansion主要的內部鋁製造廠（internal aluminum fab）。
與TSMC建立代工關係以生產採用MirrorBit技術的110nm及90nm產品，以在需求尖峰期間提供產能保障。
與富士通建立代工關係，生產320nm、230nm和200nm的MirrorBit及/或浮動閘門鋁製金屬層產品，主要是為了滿足消費性電子、機上盒和工業產品事業部（CSID）的需求。
SP1介紹
廠房架構︰三層建築
占地面積︰123,515m2 (SP1 + JV3)
建築面積︰36,482m2
無塵室面積︰13,800m2
開始生產日期︰9月18日
生產產品︰於2007年生產65nm的MirrorBit產品，於2008年生產45nm的MirrorBit產品
地址︰2, Takaku-Kogyodanchi, Aizuwakamatsu-shi, Fukushima, 965-0060
總經理︰Mikio Suetake
工廠員工人數︰約950名全職員工(SP1 + JV3)
Spansion在日本
Spansion日本公司約有2,000名員工，日本總部位於川崎市，SP1和JV-3晶圓廠位於會津市，設計中心靠近名古屋市。Spansion日本公司透過富士通的銷售管道為日本市場提供服務。
