安捷倫科技（Agilent Technologies）日前宣佈與史丹佛大學合作進行一項研究計畫，目的是要結合掃描式探針顯微鏡（scanning probe microscope，SPM）與原子層沉積（atomic layer deposition，ALD）技術，來探索新型的奈米元件。這項研究計畫將有助於快速製作出奈米元件的原型並量測其特性，就10 nm以下的精細度而言是一大突破，可進行廣泛的應用。
史丹佛大學機械工程系教授兼系主任Fritz Prinz表示：「新穎的奈米結構將可直接在這個獨特的SPM-ALD工具中製作出來並量測其特性，以快速做出各種新一代元件的原型。SPM-ALD工具可以讓我們運用存在小尺寸中的量子侷限效應（quantum confinement effect）來建構元件，這樣的尺寸大小無法使用傳統的微影（lithography）技術來探量，這些元件只能使用具有超高空間解析度的製程工具來建構。」
這項計畫的重點是要整合ALD（可達到厚度為次奈米精確度的一種薄膜技術）與具有奈米級剖面解析度（lateral resolution）的SPM，以便將掃描式探針技術延伸應用在原型製作和元件製作上。過去，電子元件的效能一直受到傳統製程方法（如光學和電子束微影技術）的限制，無法提供比20 nm小很多的特徵解析度（feature resolution）。然而，在10 nm或更小尺寸的元件中，因電子侷限產生的量子機械效應所導致的現象從品質上來講，與較大元件中所看到的極為不同。量子侷限效應的運用預計將成為電子元件新的設計典範。
台灣安捷倫科技電子量測事業群總經理張志銘指出：「安捷倫選擇補助史丹佛大學的原因是Prinz教授及其研究團隊的專業素養備受肯定，而且他們所提出的研究計畫與安捷倫SPM業務的未來發展息息相關。安捷倫科技與史丹佛大學之間的合作是安捷倫推動的大學合作計畫之一，目的是要促進安捷倫科技與全球知名學府的合作關係。安捷倫科技透過直接補助和共同研究的方式，支援全球許多大學的科學研究活動。」
