哂�X架構在更小的元件中發揮更高的效能支援數位媒體與家庭娛樂產品
X Initiative、益華電腦(NYSE:CDN)與東芝日前聯合宣佈,東芝推出第一套採用創新X架構所開發的商用系統單晶片(system-on-chip, SoC)元件,爲X架構寫下重大里程碑,。X架構是一套大規模整合的新模式,協助業者製造更小、更快的晶片。東芝最新的TC90400XBG 晶片體現X架構的各種效益,提供一套性能強大、小型化、高整合度的解決方案,支援各種新一代數位影片播放與多媒體家庭娛樂方面的應用。
X 架構是針對晶片中細微互連電路開發的新型佈線法,哂脤请娐反钆鋫鹘y的直角「曼哈頓」式佈線法。這種創新的架構讓晶片內的線路大幅減少,並讓SoC元件可使用較少的導孔來連結各個電路層。X架構創造出更上一層樓的元件效能標準,為新一代數位媒體與其它先進消費性產品帶來顯著的利益。東芝與益華電腦合作開發X架構,並贊助X Initiative,這個組織已號召超過四十家領導廠商,共同建構產品邁入量產所需的設計鏈,加速X架構邁入商業應用的階段。
東芝的里程碑晶片TC90400XBG,採用130奈米的製程技術,其設計目標是希望能整合在數位媒體與家庭娛樂的系統。相較於採用傳統「曼哈頓」設計流程的東芝同級產品,納入X架構的新晶片能提供加快11%的速度,及體積縮小10%的隨機邏輯元件。新晶片的樣本將於2004年11月推出,預定於2005年第二季開始量產。東芝的TC90400XBG已爭取到第一個客戶─這款晶片將整合在多款數位電視中,初期將於歐洲市場發表。
東芝半導體SoC設計部門技術經理Takashi Yoshimori 強調里程碑對於Toshiba與X計畫皆具有極高的重要性時指出:「東芝透過與益華電腦及多家X Initiative成員合作,開發出業界第一套採用X架構的SoC。這套產品能夠滿足市場對於效能型單晶片解決方案的多元化需求,發展出比傳統設計更快、更小的晶片。透過這套尖端的設計流程,東芝將進一步鞏固本身在SoC市場的領導地位。」
X Initative創始小組成員暨益華電腦新事業籌畫部門技術長Aki Fujimura表示:「東芝在X架構扮演統籌者的角色,加速設計方案邁入商業應用階段,包括開發第一套90奈米功能測試晶片(在去年於日本舉行的CEATEC消費性電子展中發表)。我們很高興這項設計架構能成為許多主要設計應用,如數位媒體技術的理想選擇。我們認為這將為X架構邁入產品階段的下一步奠定基礎,朝向廣為全球半導體業界廣泛採納的目標邁進。」
東芝是電子裝置與元件、資訊與通訊系統以及消費性產品與電源系統的研發與製造大廠。該並整合各領域的技術,包括硬體、軟體、以及各種服務,確保本身在各領域與事業能扮演創新者的角色。在半導體方面,東芝不斷推動本身在迅速成長系統單晶片市場中的領導地位,在NAND快閃記憶體、類比元件、以及獨立型元件等市場建立世界級地位。東芝的全球員工約有164,000位,年營業額超過470億美元。東芝網站位於:www.toshiba.co.jp/index.htm
關於益華電腦
益華電腦是電子設計技術與工程師服務業界規模最大的供應商,其解決方案被客戶用來加速與管理半導體元件、電腦系統、網路與電信設備、消費性電子及其它各種電子產品的設計作業。益華電腦員工總數約為4,800位,2003年營業額約為11億美元,在全球各地設有辦公室、設計中心、以及研發據點。益華電腦總部位於加州San Jose,以CDN代號在紐約證交所掛牌上市。有關該公司、其產品與服務的詳細資訊請參訪:http://www.cadence.com
關於X Architecture架構
X Architecture架構是第一套大量哂眯苯腔ミB線路的量產型設計技術,能降低晶片內部20%的互連或佈線資源,並減少30%的導孔數量,可同時改進晶片效能、功耗及成本。在過去20年來,晶片設計一直採用業界標準的「曼哈頓」架構,其名稱來自它像城市街道網絡般的直角互連線路。X Architecture將原本曼哈頓架構上第四及第五金屬電路層上的互連線路旋轉45度。新架構在1至3層上仍舊延用曼哈頓型式,故在單元庫(cell libraries)、記憶體單元、編譯器、以及IP核心等方面依然保持和現有技術之間的相容性。
關於X Initiative
X Initiative是一個集結半導體業界各個領域領到廠商的組織,其宗旨為加快業界採納X Architecture的步調,這套革命性的互連架構以廣為採用的斜角式佈線模式為基礎。X Initiative近五年的目標是提供X Architecture教育訓練資源的獨立管道,透過半導體產業之供應鏈提供X Architecture之週邊支援及製造,及調查X Architecture的採用狀況。參與業者包括從設計到矽元件供應鏈中的各大廠商,其中包括台灣應用材料、ARM、Artisan Components、ASML Netherlands B.V、Cadence益華電腦(NYSE: CDN)、Canon U.S.A. Inc.、Dai Nippon Printing (DNP)、DuPont Photomasks、Etec Systems,隸屬於應用材料公司、GDA Technologies、HPL Technologies、Hoya、IN2FAB Technology 、英飛凌、JEOL、KLA-Tencor、Leica Microsystems AG、松下電器、MicroArk 、Monterey Design Systems、Nikon、NuFlare Technology、PDF Solutions、Photronics、Prolific、RUBICAD、Sagantec、三洋電子、Silicon Logic Engineering、SiliconMap, LLC、Silicon Valley Research 、義法半導體、Sycon Design、Tensilica、Toppan Printing、東芝、Trecenti Technologies、台灣積體電路公司、聯華電子、Virage Logic、Virtual Silicon Technology及Zygo。半導體供應鏈中的所有廠商皆可加入會員。相關資料請參考www.xinitiative.org
有關前瞻性陳述的警訊
本文包含許多前瞻性陳述(包括以下所列事項,但範圍不在此限,因X Architecture對於半導體設計、生產、以及效能改進等方面的資訊,X Architecture和現有技術之間的相容性、X Architecture技術未來的成功、以及特定X Initiative 成員對於X Architecture的支持),這些陳述當中含有風險及不確定性,可能將影響X Initiative組織成員及其他事件,進而帶來與管理階層預期中大不相同的結果。造成這些結果的因素包括: X Initiative成員未來的決策、X Architecture 無法設計出實際產品,以及無法取代現有的設計技術以及未來的替代方案、X Initiative成員未來的決策或其它影響X Architecture發展的因素、哂�X Architecture所開發的先進半導體元件、哂�X Architecture架構所設計的半導體其成本的可行性、以及半導體產業迅速變化的技術。本文論及的事物涉及許多風險與不確定性,並已列於最近向證交所提交的X Initiative成員報告。X Initiative成員,不論是個體或群體對於本文所論及的前瞻性陳述均不具更新義務。
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