2013年11月27日--半導體測試設備領導者愛德萬測試為因應1X奈米製程光罩缺陷檢測需求，推出全新多功能整合型量測掃描式電子顯微鏡E3640。
E3640為愛德萬測試廣受業界採用的E3600系列全新電子顯微鏡產品，其精準度和產出速度已獲得大幅精進，並擁有業界最佳圖樣缺陷檢測能力，可支援業界即將面臨的1X奈米製程。除應用於標準半導體微影光罩檢測外，E3640亦能針對EUV光罩、NIL母模等下一代微影基板提供更高量測效能。
隨著行動裝置終端市場需求日漸高漲，半導體產業即將在短期內進入1X奈米製程量產階段，此重大轉變將帶動業界對於超小尺寸元件高穩定性、高精準度圖樣缺陷檢測能力的需求。E3640的推出正是回應此需求，這套系統可提供領先業界的精密量測能力，且功能更先進更強大，有助於提升光罩研發和產出效率。
愛德萬測試將於2013年12月4-6日在日本幕張國際展覽中心SEMICON Japan國際半導體展上展出E3640，並預計於2014年6月正式推出上市。
產品特性
支援1X奈米製程
E3640 採用電子光學鏡頭，導入更高階訊號處理硬體，突破上一代系統瓶頸，大幅提升量測複製效能，並支援1X奈米節點硬式罩幕開發與量產評估。除此之外，在軟體方面，這套新系統也能與其他E3600系列產品相容，讓使用者有效運用現有軟體資產。
支援微影模擬
E3640可與微影模擬工具連結，讓開發人員進行光罩圖樣模擬設計，並透過連結提供重要圖樣資訊回饋。
連結整合EDA工具
E3640可連結EDA工具取得待測圖樣座標與表貌結構 (Topography)，提高「熱點」(亦即光罩上難以修正的複雜或極小圖樣) 的量測精準度，使開發效率獲得顯著提升。
3D量測
E3640承襲愛德萬測試E3630系統的專利運算技術和多重偵測器配置設定，可對圖樣寬度、高度與側邊壁面角度進行即時3D觀察量測與識別量測。
關於愛德萬測試 (Advantest Corporation)
愛德萬測試是世界知名的半導體自動測試設備領導供應商，專為電子設備與系統設計與製造廠商提供首屈一指量測設備。現今全球最先進半導體生產線均採用該公司領先業界的系統與產品。此外，該公司亦深耕奈米和太赫茲 (terahertz) 技術的發展，積極開發新興市場，近日更推出攸關光罩製造的多視角量測掃描式電子顯微鏡，以及突破現有技術限制的3D成像暨分析工具。該公司在1954年於東京成立，並在1982年於美國成立第一家子公司，迄今子公司遍佈全球。進一步資訊請至公司網站www.advantest.com。
