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應用材料公司精進3D晶片架構的離子植入技術

本文作者:應用材料公司       點擊: 2014-07-01 10:14
前言:
2014年7月1日--應用材料公司今日宣佈推出Applied Varian VIISta® 900 3D系統;這是業界最先進的中電流離子植入機台,專門開發用於製造次20奈米以下的 FinFET 及 3D 快閃記憶體(NAND) 元件設計。本系統在精密材料工程設計方面採用多項創新技術,提供無可比擬的控制功能,協助提升元件效能、減少變異性,並讓日漸複雜的高效能、高密度 3D 元件良率大幅增加。
 

 
VIISta 900 3D 系統提供強化的離子光束入射角度精密度、突破性的離子光束形狀精確度,以及卓越的植入劑量和均勻度控制,協助客戶達到製程再現性及最佳元件效能。系統採用獨特的加熱植入技術及三個離子束偏轉磁鐵架構,協助減少外來粒子和污染,進一步提升元件良率。結合以上功能,可支援製造複雜 3D 架構所需的精密植入。
 
應用材料公司瓦里安半導體設備事業處副總裁暨總經理蓋瑞.羅森 (Gary Rosen)表示:「市場消費者需要更優異的行動元件能力,讓晶片製造商承受龐大壓力,努力提供效能更高、功率更低的元件裝置,因此產生各種複雜挑戰。VIISta 900 3D 離子植入機台是專為 3D 元件設計開發的產品,可協助解決客戶最困難的挑戰,提供最純粹、最精密的離子植入,提升元件效能及良率。」
 
SuperScan 3 是VIISta 900 3D 系統中主要的創新,運用機台獨特的離子光束形狀控制,支援客製化的晶圓離子植入劑量的特殊分佈圖形,可針對任何所需圖形提供精確、精密的客製劑量分佈。SuperScan 3 可修正非離子植入製程造成的變異,提升元件效能及 3D元件良率。以上各種功能結合系統的生產力改善,以及系統的高產出,協助客戶顯著地降低運作和持有成本。
 
VIISta 900 3D機台除了針對 FinFET 及 3D NAND元件製造提供先進技術能力,也具備精密度及低污染等特色,對於行動電子商品逐漸增加使用的CMOS 影像感測器中的發光二極體及邏輯元件結構而言,可說是最佳的製程選擇。
 
應用材料公司是全球前五百大公司之一,專事製造先進的半導體、平面顯示、太陽光電的各項創新性設備、服務及軟體產品。應用材料公司的創新技術可協助諸如智慧型手機、平面電視及太陽能電池更具成本效益,更方便使用。查詢應用材料相關訊息,請至www.appliedmaterials.com
 

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