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Mentor Graphics 增強對 TSMC 7 奈米製程初期設計開發和10奈米製程量產的支援

本文作者:Mentor Graphics       點擊: 2016-03-24 10:21
前言:
2016年3月24日-- Mentor Graphics公司(納斯達克代碼:MENT)今天宣佈,藉由完成 TSMC 10 奈米 FinFET V1.0 認證,進一步增強和優化Calibre® 平臺和 Analog FastSPICE™ (AFS) 平臺。除此之外,Calibre 和 Analog FastSPICE 平臺已可應用在基於TSMC 7 奈米 FinFET 製程最新設計規則手冊 (DRM) 和 SPICE 模型的初期設計開發和 IP 設計。
 
為協助共同客戶能準備好使用先進製程做設計,Mentor 為TSMC 10 奈米製程改進物理驗證工具,加速 Calibre nmDRC™ sign-off 工具的執行時間,使其優於去年初針對 10 奈米精確度進行認證時的工具執行時間。Calibre nmLVS™ 工具已可支援10奈米製程中新的元件參數抽取,以獲取更精準的 SPICE 模型和自熱模擬。同時,Mentor 還提升了 Calibre xACT™ 解決方案的寄生參數精確度,並積極改善佈局寄生參數抽取流程以滿足 10 奈米技術的要求。
 
Calibre 平臺還可幫助設計工程師提高設計可靠度和可製造性。在為 10 奈米製程電阻和電流密度檢查做了技術的改進後,現在 TSMC倚賴 Calibre PERC™ 可靠性驗證解決方案做可靠度確認。在可製造性設計 (DFM) 方面,Mentor 添加了色彩感知填充和更精密的對齊和間距規則在 Calibre YieldEnhancer 工具的SmartFill 功能中。此外,Mentor 還優化了 Calibre DESIGNrev™協助晶片最後完工工具、Calibre RVE™ 結果檢視器和 Calibre RealTime 介面,為設計工程師在多重曝光、版圖佈局與電路圖 (LVS) 比較和電氣規則檢查 (ERC) 及可靠性驗證方面提供更容易整合和除錯功能。
 
如今,Mentor 和 TSMC 攜手合作,將 Calibre 平臺的多樣化功能應用至 7 奈米FinFET 製程中。Calibre nmDRC 和 Calibre nmLVS 工具業已通過客戶早期設計的驗證。TSMC 和 Mentor 正擴大 SmartFill 和 Calibre 多重曝光功能的使用功能,為 7 奈米的製程需求提供技術支援。
 
為獲得快速、準確的電路模擬,TSMC 認證AFS 平臺,包含 AFS Mega 電路模擬器可用於TSMC 10 奈米 V1.0 製程。AFS 平臺還通過了最新版 7 奈米DRM和 SPICE 可用於早期設計開發。
 
為支援10 奈米製程先進的設計規則,Mentor 增強了包括 Olympus-SoC™ 系統在內的佈局佈線平臺,並且優化其結果能與sign-off 參數抽取和靜態時序分析工具有相關性。這項優化也擴展至7 奈米製程。
 
“我們將繼續與 Mentor Graphics 合作,提供設計解決方案和服務予我們的共同客戶,幫助他們在 7 奈米製程設計方面獲得成功,” TSMC 設計建構行銷部資深處長 Suk Lee 說。“通過攜手合作,我們能支援10 奈米設計實現量產。” 
 
“現今傑出的 SoC 設計工程師要能掌握最先進的製程,需要晶圓代工廠和 EDA 供應商兩者之間的緊密合作,”Mentor Graphics Design to Silicon 事業部副總裁兼總經理 Joe Sawicki 表示。“對於 TSMC 在其未來的生態系統策略上能繼續利用已經證明具有高品質、高性能和全面性的Mentor 平臺,我們感到非常榮幸。”
 
關於Mentor Graphics
Mentor Graphics® 是電子設計自動化 (EDA) 領域的全球領導者,提供許多公司軟體和硬體設計解決方案,促使其能更快速且更具成本效益地開發出更出色的電子和機械產品。Mentor Graphics®提供了各種創新的產品和解決方案,工程師可透過借助Mentor Graphics®不斷推陳出新的產品及解決方案,應對日趨複雜的電路板及晶片設計領域所面臨的挑戰。Mentor Graphics 擁有業界最豐富且一流的產品組合,也是全球唯一具備嵌入式軟體解決方案的 EDA 公司。

• 上市公司(納斯達克代碼:MENT)
• 創立於 1981 年,總部位於俄勒岡州威爾遜維爾市
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• 全球各地設有 70 多個分公司或辦事處
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