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Vistec於2026年EMLC研討會上展現電子束微影製程在光子學及先進半導體應用領域的發展動能

本文作者：Vistec 點擊： 2026-06-22 14:15

前言：

重點介紹近期客戶里程碑創舉，並慶祝Vistec成立30週年——奠基於60年來的電子束創新成果

2026年6月22日--全球電子束（e-beam）微影系統領導供應商Vistec Electron Beam GmbH將於第41屆歐洲光罩與微影技術研討會（EMLC 2026）上發表其在電子束技術方面的最新發展成果。該研討會將於2026年6月22-24日在德國耶拿市舉辦。今年也正逢Vistec成立30週年，對於這家擁有60多年電子束專業知識的公司，是一個重要的里程碑。在過去的一年裡，Vistec取得了多項重大進展，包括新增客戶裝機、擴展全球業務，以及繼續在其核心微影技術領域持續創新。藉由參加EMLC研討會，Vistec將展現其創新技術如何推動工業與先進研究應用領域中的先進半導體、光子學、微光學、生物感測奈米機電／微機電系統（NEMS/MEMS）以及量子計算的進步。

圖_Vistec SB255。來源：Vistec Electron Beam GmbH

先進電子束微影技術

Vistec的電子束微影系統基於公司本身專有的可變形束（VSB）技術，不僅能繪製高精密圖案，同時也極度靈活。不同於傳統高斯光束系統的逐點曝光方式，VSB技術能夠曝寫從奈米級到微米級的可變尺寸圖形，有助於大幅減少曝光次數並縮短撰寫時間。若結合先進胞元投影技術，得以在單一曝光步驟中曝製重複或甚至任意結構圖形，Vistec系統在光子學、微光學和AR／VR波導等具有重複幾何結構的應用中則能夠顯著提升產能。

Vistec的VSB平台提供了一個成本效益高且靈活的電子束微影解決方案，不僅維持了高解析度和圖形保真度，同時還能支援更廣泛的應用類型，尤其是在高混合／低產量的製造環境中。該公司的平台也支援300mm晶圓曝寫，因此能夠同時用於先進研究與工業製造。另一個關鍵獨家賣點，則是Vistec專有的ePLACE資料製備軟體。這套軟體能夠簡化資料處理流程並優化曝光策略，包括用於其VSB系統的胞元投影設備。

新客戶專案與里程碑

Vistec近期於日本東京大學的武田先端知超級無塵室完成了一套SB255 VSB系統的安裝工作，這套系統是「材料與奈米科技先進研究基礎設施-半導體科技基礎設施倡議（ARIM-SETI）」的一部份；該倡議由東京大學工程學研究所系統設計實驗室（d.lab）平台裝置研究部門負責營運。

Vistec SB255是一套具備高解析度、用途廣泛且成本效益高的工具，可支援直寫和光罩製造應用，使得東京大學得以更深入涉足於先進應用。此外，這套設備的安裝也反映出Vistec在策略上極為重要的日本市場拓展疆域方面邁出了意義重大的一步。東京大學與HEIDENHAIN企業集團旗下的Vistec與日本HEIDENHAIN株式會社締結合作夥伴關係，作為支持精密研究和半導體微影技術教育的關鍵產業供應環節。

另外，Vistec在化合物半導體晶圓代工廠中受到廣泛採用，迄今已有數十套系統完成安裝，用於先進設備製造。在美國，Vistec將為一家主要科技創新業者針對一項先進研究計劃提供一套電子束微影系統，進一步凸顯電子束技術在下一代設備創新中日益重要的地位。其他的歐洲客戶業務也同樣反映出市場對於靈活、高解析度的微影解決方案的需求持續增長。

而在臺灣，歸功於當地公司Vistec Electron Technology Co. Ltd.的有力支援，Vistec已在此建立起強勁的市場影響力超過20年──這家子公司為全臺各地客戶提供專業的現場工程支援服務。該公司也與其銷售業務代理Scientech Corporation緊密合作，支援整個臺灣市場的客戶互動與業務發展。繼去年成功安裝了一套200mm系統後，Vistec力求繼續擴展其業務版圖，目前正在為國家實驗研究院（NIAR）所屬的臺灣半導體研究中心（TSRI）安裝一套300mm電子束微影系統。Vistec也為臺灣化合物半導體晶圓代工市場的客戶提供服務。

「我們秉持著逾60年的承傳底蘊，持續鞏固自身作為電子束專家的聲譽，竭力提供能夠銜接先進研究與工業規模應用。」Vistec Electron Beam GmbH總經理Matthias Slodowski如此表示。「市場上對於光子學、先進半導體設備和特殊製程的依賴程度持續上升，對於靈活、高度精密的微影解決方案的需求也因此不斷增長。我們全球頂尖的VSB微影技術平台無縫整合了胞元投影技術，可帶來更強大的產能、精確度、靈活度、高度自動化以及製程效率，能夠充分滿足上述需求。如今，電子束技術已成為推動未來先進設備創新發展的關鍵助力，因此我們非常期待能夠在2026年的EMLC研討會上呈現我們的最新技術進展和應用專業知識。」

2026年EMLC技術成果發表

Vistec將在EMLC研討會上發表以下演講：

 「電子束胞元投影用於製作3D閃耀光柵與曲線性結構」（第4場：晶圓微影製程與定圖樣，6月22日，週一，下午5:20-5:40，CET）

 「利用可變形電子束微影技術確定波導特性時形狀近似所扮演的角色」（第4場：晶圓微影製程與定圖樣，6月22日，週一，下午5:40-6:00，CET）──與耶拿大學暨馬克斯·普朗克光子學學院弗勞恩霍夫應用光學和精密機械研究所共同撰稿

 「利用特殊資料製備方法，以層內電子束曝光對i線結構的潛像光阻影像進行灰階微影積層」（第10場：新型微影技術／直寫微影與定圖，海報發表，P-3，6月23日，週二，下午4:30-6:20，CET）──與弗勞恩霍夫電子奈米系統研究所及肯尼茲大學（肯尼茲工業大學）共同撰稿

誠摯邀請EMLC 2026的與會者與Vistec聯繫，以進一步瞭解本公司的最新技術發展。

相關網站連結：https://www.vistec-semi.com/company/news-events。

關於Vistec Electron Beam GmbH

30多年來，Vistec持續為先進電子束微影技術領域提供領先業界的技術解決方案。由於採用可變形束（VSB）原理為基礎，Vistec的系統在工業與先進研究應用中都廣受採用，包括半導體直寫與化合物半導體的光罩曝寫、光子學、微光學、生物感測奈米機電／微機電系統、量子計算領域，以及其他各種新興市場。

高效率的資料處理與創新曝光策略，例如胞元投影技術，促成了新型應用，特別是在AR／VR領域。Vistec的系統具有自動化操作能力、高度靈活、精準曝寫和高產能等特性，是原型製作和高混合／低產量製造模式的理想選擇。除了位於德國耶拿市的生產據點之外，Vistec也在亞太地區、美國與歐洲多處設有服務與支援中心。欲瞭解更多詳情，請前往：https://www.vistec-semi.tw/。

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