照片人物:英特格技術長James A. O’Neill博士
半導體產業已經進入包含由物聯網、工業自動化、人工智慧、自動駕駛、5G通訊等趨勢構成第四波工業革命。這些趨勢帶動晶片需求，給半導體帶來成長。
不同階段有不同策略及挑戰，材料技術不斷演進，且應用的材料本質也開始改變。特用化學原料暨先進科技材料供應商英特格成立迄今已經有50年歷史，公司的使命是運用科學為基礎提供解決方案，協助半導體客戶在先進製程上應對各種挑戰。
英特格（Entegris）技術長James A. O’Neill博士表示，在個人電腦時代仰賴微縮技術，因為裝置越來越小；到了行動裝置時代，更導入新的材料來增加效能，以延續摩爾定律；現今不只需要微縮技術，更仰賴3D技術以及新的架構。
新的材料、晶片、形狀都與過去不同，對於半導體製程來說都是很複雜的挑戰。舉例來說，從20奈米轉換到7奈米，複雜程度是過去的兩倍。技術要驗證得更快，所以整個生產週期時間都是更短的。這表示在採用先進製程時，要達成較佳的良率更為困難，產業的重點就在於如何快速達到好的良率。
要提高良率重點之一是汙染控制，從28奈米到7奈米，對於金屬雜質容忍程度已經減少1,000倍，而晶圓致命微粒則縮小將近四倍，這點非常重要，因為只要雜質或微粒等污染的容忍程度有了細微變動，對晶圓廠獲利都會造成很大的影響。
James A. O’Neill表示，在半導體先進製程中，需要新的金屬材料去提高阻抗與可靠度，當金屬材料改變時，下游製程，像是如何清洗都須要一併改變，因此，半導體製程中導入新的材料絕對不是一個簡單的過程。在材料品質的微粒控制來說，對於微粒可容忍的程度越來越低，即對汙染控制要求更高。
對材料公司來說，在生產與製造材料過程中保持產品的潔淨度已經不夠，必須要在整個生態系統中維持化學品潔淨度。英特格提供整個生態系統一貫的解決方案並提高晶圓良率。James A. O’ Neill表示，每提升1%製程良率，就能為先進邏輯晶片廠每年多帶來1.5億美元的淨利。
此外，英特格在蝕刻技術有很大的進步。英特格EUV製程的汙染控制與光罩盒在過濾技術上更能確保材料放在pattern上維持潔淨度。英特格不僅提供光罩盒，還有特殊化學品、過濾器、過濾技術，以及製程中各方面需要的材料和汙染控制，提供客戶最廣泛的解決方案。
