圖說：應用材料公司的AKT-PiVot物理氣相沉積系統
應用材料公司推出適用於下一代液晶顯示器與有機發光二極體的新技術，將促使超高畫質(UHD)電視及高像素密度螢幕的行動裝置邁向新紀元。10月31日至11月2日在日本橫濱舉辦的2012年國際平面顯示器展覽(FPD International 2012)，應用材料公司將展出這些新系統。
新的物理氣相沉積(PVD)和電漿強化化學氣相沉積(PECVD)技術，這項重大轉型技術的關鍵是新的金屬氧化物與低溫多晶矽 (LTPS) 材料，可用來製造更快速、更小巧的薄膜電晶體 (TFT)，適用於液晶顯示器( LCD) 和有機發光二極體 (OLED)技術。Applied AKT-PiVot™ 物理氣相沉積和Applied AKT-PX 電漿強化化學氣相沉積薄膜沉積系統為面板業者提供高效能、符合成本效益的途徑，帶動先進材料的量產。
應用材料公司集團副總裁暨顯示器事業群總經理湯姆．艾德曼(Tom Edman)表示：「在過去的20年中，TFT技術的精進，推動顯示器產業進行一場最關鍵的技術轉型。應用材料公司開發出通過驗證的系統產品組合，協助我們客戶技術躍進，進而運用這些新的薄膜。客戶利用我們的系統獲得出色的成果，應用材料公司業已獲得主要顯示器製造商的多張訂單」。
針對採用金屬氧化物的TFT，應用材料公司的AKT-PiVot PVD系統使用專屬的旋轉陰極技術來沉積銦鎵鋅氧化物(IGZO)，這是具有高電子遷移率的新材料，能形成電晶體通道。PiVot 系統為顯示器產業提供了強大的 IGZO 解決方案，能夠克服影響顯示器品質的顯示不均 (mura effect) 缺陷，這項問題曾讓金屬氧化物技術無法成為液晶顯示器的主流。此外，由PiVot 沉積的銦鎵鋅氧化物薄膜突破了TFT 穩定性問題，確保OLED可以使用金屬氧化物背板，大幅降低成本，讓經濟實惠而細緻鮮豔的大型OLED電視成為可能。
低溫多晶矽(LTPS)技術是一項通過驗證的方法，可用來製造行動LCD和OLED裝置的最高解析度顯示幕，但一直面臨玻璃基板放大問題和單位製造成本高昂的挑戰。應用材料公司AKT-PX電漿強化化學氣相沉積系統的全新擴充系列產品，可在1.6平方公尺到5.7平方公尺的玻璃基板上沉積出極為均勻的LTPS薄膜。這些加大的基板，讓面板製造商能夠實現經濟規模，大幅提高產能並降低成本，同時也讓全球各地數十億的消費者能夠享受大型LCD電視。應用材料的系統用於大面積玻璃製造，也有助加速LTPS技術的轉型，讓行動裝置與電視的螢幕變得更大。
圖說：應用材料公司AKT-PX電漿強化化學氣相沉積系統
