明導國際 (Mentor Graphics) 日前宣佈其Calibre®設計與製造平台的多款最佳工具已通過認證，現能為IBM/特許半導體/三星的65奈米製程Common Platform技術提供強大可靠的可製造設計 (DFM) 方法支援。這些已通過生產驗證的工具讓有意採用跨晶圓代工廠商製程的設計人員在設計流程初期就能更快找出和解決潛在的良率影響因素，進而提高先進奈米技術的生產成功機率。下一代IC設計流程必須為這類全新的可製造設計工具提供彈性的晶圓代工廠商支援，這是它們成功的必要條件。
Calibre LFD™在初步設計階段就能解決非常迫切的微影製程變異性管理問題，這使它成為第一套具備這項能力並通過生產驗證的EDA工具。Calibre LFD允許設計人員做出各種設計取捨，以便創造更可靠和更不易受到微影製程適用範圍 (lithographic process window) 影響的設計。這不但對90奈米技術很重要，對於極小的製程變異就可能大幅影響矽晶片結果的65奈米技術更是關鍵。Common Platform生產合作廠商還為設計人員提供一套LFD工具，它能透過類似於設計規則檢查 (DRC) 套件的方式重複使用以支援這三家半導體廠商共同的65奈米製程。這組加密套件包含能量、濃度和光罩偏移 (mask bias) 考量；解析度強化技術 (RET) 的各種參數設定、製程模型和需要檢查的可參數化規則。設計人員還能執行模擬來瞭解某種佈局方式在特定微影製程下的表現，確保最終設計順利通過微影製程和設計規則檢查。
「IBM、特許半導體和三星都與Mentor密切合作，針對65奈米的Common Platform技術將Calibre LFD最佳化。」IBM系統與技術事業群的半導體技術平台副總裁Steve Longoria表示，「這套工具不但強化我們的平台可製造設計套件，也擴大我們以合作和創新為基礎的開放產業環境。設計人員在設計流程初期就能找出容易受到微影製程影響的部份並做出重要抉擇，然後才將設計送給三家公司的晶圓廠進行生產製造。」
Calibre YieldAnalyzer™提供一套完整方法讓Common Platform將高良率設計 (design-for-yield) 的能力帶給客戶。Calibre YieldAnalyzer包含完整的可製造設計規則，其範圍涵蓋隨機性、系統性和參數性等良率損失相關的所有重要領域。Common Platform提供領先業界的良率改善指標，它讓設計人員瞭解應該如何利用他們的時間以及將這些時間用在何處才能改善他們的設計良率。Common Platform利用YieldAnalyzer的強大功能把他們的效能改善指標以Calibre DFM規則檔案 (deck) 的形式提供給客戶，使客戶能夠自然地讓設計規則檢查範圍擴及可製造設計。
「65奈米製程驗收規則的數量和複雜性都極為驚人。」三星半導體技術副總裁Ana Hunter表示，「這項艱巨工作可以簡化。而且透過我們的共同努力，設計人員將能評估各種取捨條件和大致瞭解各種選擇會對良率產生那些影響。」
「今天，我們已在可製造設計的新工具和新技術應用上達到一個重要里程碑，我們很高興支援Common Platform模型已成為我們客戶的選項之一。」Mentor Graphics設計與製造部門副總裁暨總經理Joe Sawicki表示，「良率損失機制的分析和預防管理基礎設施已逐漸成形，並且證明它們自己極有價值。」
關於Common Platform的可製造設計策略
Common Platform的合作廠商於2005年9月列出他們在可製造設計方面的策略和發展藍圖，其中特別強調聯合開發團隊所關注的八項重要領域。這項合作旨在解決日益困難的設計收斂問題，包括時序、面積、耗電、訊號完整性和可製造性。合作廠商將透過一系列以規則和模型為基礎的設計工具把可製造設計功能提供給設計人員，他們可利用工具所含的重要資訊準確預測他們的決定將對不同操作範圍、模式和條件的設計產生那些影響。這三家公司在生產環境中提供的嚴格認證程序以及Common Platform合作廠商針對可製造設計所提供的系統層級設計知識也會對EDA和DFM供應商的能力產生極大幫助。
關於 Mentor Graphics
明導國際為電子設計自動化領導廠商, 創立於1981年, 全球員工超過3850人, 致力於為電子設計業者提供快捷高效的 PCB 與 lC 設計解决方案, 協助客户面對與日俱增的設計挑戰和市埸壓力。明導國際深耕亞太市埸多年, 目前在台灣, 韓國, 中國大陸及新加坡均設有分公司, 同時也於2000年將亞太區總部設立於台灣, 希望能藉助台灣經驗協助中國市場的開拓。公司總部位於美國奧勒岡州(Oregon)，地址為 8005 S.W. Boeckman Road,Wilsonville, Oregon 97070-7777. 矽谷總公司則位於1001 Ridder Park Drive, San Jose, California 95131-2314. 全球資訊網網址: http://www.mentor.com/．中文網址：http://www.mentorg.com.tw
Calibre LFD™在初步設計階段就能解決非常迫切的微影製程變異性管理問題，這使它成為第一套具備這項能力並通過生產驗證的EDA工具。Calibre LFD允許設計人員做出各種設計取捨，以便創造更可靠和更不易受到微影製程適用範圍 (lithographic process window) 影響的設計。這不但對90奈米技術很重要，對於極小的製程變異就可能大幅影響矽晶片結果的65奈米技術更是關鍵。Common Platform生產合作廠商還為設計人員提供一套LFD工具，它能透過類似於設計規則檢查 (DRC) 套件的方式重複使用以支援這三家半導體廠商共同的65奈米製程。這組加密套件包含能量、濃度和光罩偏移 (mask bias) 考量；解析度強化技術 (RET) 的各種參數設定、製程模型和需要檢查的可參數化規則。設計人員還能執行模擬來瞭解某種佈局方式在特定微影製程下的表現，確保最終設計順利通過微影製程和設計規則檢查。
「IBM、特許半導體和三星都與Mentor密切合作，針對65奈米的Common Platform技術將Calibre LFD最佳化。」IBM系統與技術事業群的半導體技術平台副總裁Steve Longoria表示，「這套工具不但強化我們的平台可製造設計套件，也擴大我們以合作和創新為基礎的開放產業環境。設計人員在設計流程初期就能找出容易受到微影製程影響的部份並做出重要抉擇，然後才將設計送給三家公司的晶圓廠進行生產製造。」
Calibre YieldAnalyzer™提供一套完整方法讓Common Platform將高良率設計 (design-for-yield) 的能力帶給客戶。Calibre YieldAnalyzer包含完整的可製造設計規則，其範圍涵蓋隨機性、系統性和參數性等良率損失相關的所有重要領域。Common Platform提供領先業界的良率改善指標，它讓設計人員瞭解應該如何利用他們的時間以及將這些時間用在何處才能改善他們的設計良率。Common Platform利用YieldAnalyzer的強大功能把他們的效能改善指標以Calibre DFM規則檔案 (deck) 的形式提供給客戶，使客戶能夠自然地讓設計規則檢查範圍擴及可製造設計。
「65奈米製程驗收規則的數量和複雜性都極為驚人。」三星半導體技術副總裁Ana Hunter表示，「這項艱巨工作可以簡化。而且透過我們的共同努力，設計人員將能評估各種取捨條件和大致瞭解各種選擇會對良率產生那些影響。」
「今天，我們已在可製造設計的新工具和新技術應用上達到一個重要里程碑，我們很高興支援Common Platform模型已成為我們客戶的選項之一。」Mentor Graphics設計與製造部門副總裁暨總經理Joe Sawicki表示，「良率損失機制的分析和預防管理基礎設施已逐漸成形，並且證明它們自己極有價值。」
關於Common Platform的可製造設計策略
Common Platform的合作廠商於2005年9月列出他們在可製造設計方面的策略和發展藍圖，其中特別強調聯合開發團隊所關注的八項重要領域。這項合作旨在解決日益困難的設計收斂問題，包括時序、面積、耗電、訊號完整性和可製造性。合作廠商將透過一系列以規則和模型為基礎的設計工具把可製造設計功能提供給設計人員，他們可利用工具所含的重要資訊準確預測他們的決定將對不同操作範圍、模式和條件的設計產生那些影響。這三家公司在生產環境中提供的嚴格認證程序以及Common Platform合作廠商針對可製造設計所提供的系統層級設計知識也會對EDA和DFM供應商的能力產生極大幫助。
關於 Mentor Graphics
明導國際為電子設計自動化領導廠商, 創立於1981年, 全球員工超過3850人, 致力於為電子設計業者提供快捷高效的 PCB 與 lC 設計解决方案, 協助客户面對與日俱增的設計挑戰和市埸壓力。明導國際深耕亞太市埸多年, 目前在台灣, 韓國, 中國大陸及新加坡均設有分公司, 同時也於2000年將亞太區總部設立於台灣, 希望能藉助台灣經驗協助中國市場的開拓。公司總部位於美國奧勒岡州(Oregon)，地址為 8005 S.W. Boeckman Road,Wilsonville, Oregon 97070-7777. 矽谷總公司則位於1001 Ridder Park Drive, San Jose, California 95131-2314. 全球資訊網網址: http://www.mentor.com/．中文網址：http://www.mentorg.com.tw
