羅門哈斯推出支援先進化學機械研磨應用的新型VisionPad™產品

本文作者:admin       點擊: 2007-08-10 00:00
前言:
半導體產業化學機械研磨技術領先與創新廠商--羅門哈斯電子材料公司CMP Technologies事業部,日前前宣佈推出兩款支援化學機械研磨的新型visionPad™產品,此二款產品不僅可提供世界級的低缺陷及平坦化能力,還能延長產品的使用壽命。

產品特色:
•VisionPad 3200的缺陷率表現和平坦化能力不僅優於業界標準的Politex™研磨墊,還能延長銅阻障層研磨壽命,可協助客戶提高產出、改善良率並減少設備停機時間。
•VisionPad 3500提供媲美Politex研磨墊低陷率和業界標準的IC1000™研磨墊銅阻障層研磨平坦化能力。此外,VisionPad 3500並適用於鎢研磨和銅清洗製程。

VisionPad 3200和VisionPad 3500專為採用先進金屬製程的半導體廠商所設計,它們利用獨家化學技術將晶圓表面的刮痕、震紋及其它缺陷減到最少,進而提高晶粒良率。新研磨墊採用羅門哈斯獨創的聚氨酯配方,既能提供比傳統硬研磨墊更軟的表面以減少缺陷率,又能維持必要的堅硬度以確保優異的研磨平坦度。

VisionPad 3200和VisionPad 3500的產品壽命遠超過傳統軟研磨墊,甚至達到傳統硬研磨墊的水準。因此客戶可方便使用各種不同研磨平台,減少因研磨墊更換及認證所需的設備停機時間。此二款新產品不但可提高先進技術的製程產出和晶圓良率,還能整合到現有的生產製程中。

羅門哈斯電子材料公司CMP Technologies事業部技術副總裁Cathie Markham表示:「這兩款新產品代表著我們在研磨墊產品線最關键且符合市場的進展。我們的客戶正邁向更先進的製程,為回應他們的需求,我們也積極開發及推出特別設計的新產品,以滿足客戶不斷改變的研磨需求。」

與傳統軟研磨墊不同, 由於VisionPad 3200和VisionPad 3500可調整研磨性能,可使研磨表面再生,以確保在整個產品壽命週期內都能提供穩定且一致的最佳研磨效果。這兩款研磨墊目前有多溝槽(multiple grooving)、子墊片(subpad)和黏貼性(adhesive)等不同配置可供選擇。

所有VisionPad產品都是應用SPC/SQC系統製造,以確保該系列產品擁有最高的品質和穩定性能。目前,此二款產品均有現貨可供客戶進行試用。

 

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