羅門哈斯公司推出全新ACuPLANE™銅阻障層CMP解決方案

本文作者:admin       點擊: 2008-09-10 00:00
前言:
羅門哈斯電子材料公司(Rohm and Haas Electronic Materials,紐約證券交易所:ROH)旗下的研磨技術事業部(CMP Technologies)是全球半導體行業化學機械研磨(CMP)技術領域的領先創新者。該部門今天向高級Cu/low-k材料互連應用產品推出了ACuPLANE™銅阻障層CMP解決方案。ACuPLANE系統將羅門哈斯的EcoVision™ 4000化學機械研磨墊和ACuPLANE 5000系列研磨液結合起來,組成一個可調節的化學機械研磨系統,以滿足高級製程節點的嚴格要求。

ACuPLANE系統通過優化研磨墊和研磨液的組合性能,使缺陷率降低了一個數量級,同時還賦予客戶更大的控制力,幫助客戶將金屬和電介質的損耗降至最低。此外,ACuPLANE系統能夠顯著改善研磨後整個晶圓表面的形貌,並能降低晶圓上的壓力以避免多孔的超低介電常數(ultra low-k)材質薄膜表面出現凹陷、腐蝕和脫層現象。

羅門哈斯電子材料公司全球技術總監Cathie Markham說,「ACuPLANE系統提供的化學特性能根據具體的客戶製程需求進行調整。該系統還能直接滿足客戶需求,幫助客戶延長研磨墊的使用壽命,為客戶提供穩定一致的性能。我們的客戶最高曾在32奈米技術節點水準使用這套系統,取得了令人振奮的結果。」

EcoVision 4000研磨墊的創新設計擴大了研磨墊與晶圓表面的接觸點面積,這可直接降低下層膜系上承受的壓力。這樣一來,就能最大限度消除整個晶圓上的刮痕、顫動擦痕以及薄膜脫層現象,從而減少缺陷,提高晶片產量。ACuPLANE 5000系列研磨液是為了讓用戶能夠靈活操作,控制研磨移除率和選擇性,以處理具體的製程需求。不論有選擇或非選擇製程均可採用這種研磨液,來保持或矯正即將形成的表面形貌,從而在阻障層CMP製程之後獲得出色的表面形貌性能。

客戶經過測試發現,使用該產品,研磨墊的使用壽命可達到平均水準的兩到三倍,而且明顯有實現更高通量的潛力。Markham最後說,「這些結果證明,ACuPLANE系統解決方案將顯著降低銅金屬阻障層CMP的成本。」

ACuPLANE銅金屬阻障層CMP系統由研磨墊-研磨液-研磨墊調節器解決方案構成,現已批量上市。該系統現已在全球多家300mm晶圓製程級的工廠開始大量生產(HVM)、測試和認證。 

關於羅門哈斯電子材料公司

羅門哈斯電子材料公司(Rohm and Haas Electronic Materials)為電子和光電子行業研發和提供創新型材料解決方案和製程技術。其產品和技術側重於電路板、半導體生產、高級封裝和顯示器及太陽能行業,其產品和技術是全球各地電子器件不可缺少的組成部分。更多資訊請參閱網址www.rohmhaas.com。

研磨技術事業部自1969年以來已經成為全球半導體行業研磨技術的領導者和創新者。研磨技術事業部的產品包括研磨墊、調節器和液材。研磨技術事業部在全球各地設有經營部門,包括在德拉瓦州紐華克、臺灣新竹以及日本三重和京都的製造廠。

羅門哈斯公司簡介

羅門哈斯公司(Rohm and Haas)(NYSE:ROH)自1909年以來一直引領行業發展,是為特殊材料行業創造、研發創新技術和解決方案的全球先鋒。該公司的技術在應用在眾多的行業,包括:建築與建設、電子與電子設備、家用品與人身防護、包裝與紙張、運輸、製藥與醫學、水處理、食品及其相關領域以及工業過程。羅門哈斯的創新型技術和解決方案每在全球各地幫助改善人們日常生活。公司總部設在賓夕法尼亞州費城,2007年創造約89億美元的年銷售額。欲瞭解更多資訊,請參閱網址www.rohmhaas.com。

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