2015年10月15日--全球半導體微影技術領導廠商艾司摩爾 (ASML) 昨日公佈2015第三季財報，重點如下:
• 2015年第三季營收淨額 (net sales) 為15.5億歐元，毛利率 (gross margin) 為45.4%，符合預期
• 2015第四季營收淨額 (net sales) 預估為14億歐元，毛利率 (gross margin) 預估約為45%
• TWINSCAN NXT 浸潤式微影系統平台和NXE EUV極紫外光平台在第三季雙雙升級，以符合下一代晶片製造需求
• 2015年第三季營收淨額 (net sales) 為15.5億歐元，毛利率 (gross margin) 為45.4%，符合預期
• 2015第四季營收淨額 (net sales) 預估為14億歐元，毛利率 (gross margin) 預估約為45%
• TWINSCAN NXT 浸潤式微影系統平台和NXE EUV極紫外光平台在第三季雙雙升級，以符合下一代晶片製造需求
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(Figures in millions of euros unless otherwise indicated) |
Q2 2015 |
Q3 2015 |
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Net sales |
1,654 |
1,549 |
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...of which service and field option sales |
520 |
574 |
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Other income (Co-Investment Program) |
21 |
21 |
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New systems sold (units) |
34 |
39 |
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Used systems sold (units) |
7 |
5 |
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Average Selling Price (ASP) of net system sales |
27.7 |
22.2 |
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Net bookings* |
1,523 |
904 |
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Systems backlog* |
3,015 |
2,880 |
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Gross profit |
754 |
703 |
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Gross margin (%) |
45.6 |
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45.4 |
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Net income |
370 |
322 |
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EPS (basic; in euros) |
0.86 |
0.75 |
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End-quarter cash and cash equivalents and short-term investments |
2,520 |
2,681 |
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End-quarter cash and cash equivalents and short-term investments 2,520 2,681
*) For the adjusted definition of our net bookings and systems backlog see footnote 4 of our US GAAP Consolidated Financial Statements.
A complete summary of US GAAP Consolidated Statements of Operations is published on www.asml.com
A complete summary of US GAAP Consolidated Statements of Operations is published on www.asml.com
ASML總裁暨執行長溫彼得 (Peter Wennink) 表示，「我們2015年第三季的營收淨額符合預期。本季有超過50%的系統銷售來自於記憶體客戶，而服務方面的業務則再刷新紀錄。ASML持續產品創新來支援客戶的技術藍圖，其中一個實例就是我們將NXT:1980浸潤式微影系統的疊對(overlay)誤差改善30%、晶圓吞吐量提昇10%。這些NXT:1980系統已於第三季開始出貨。」
「相較於我們三個月前的預期，晶圓代工客戶的投資計劃趨向保守。因此，我們預估第四季的營收會略低於第三季的水準，但我們仍朝向刷新年度營收紀錄的目標穩步前進。儘管邏輯晶片客戶的需求在今年第三季和第四季略微減緩，但客戶對於10奈米製程節點在2016年第二季開始量產的計劃不變。在記憶體方面，從現在到2016上半年，客戶對於微影系統的需求持續強勁，但略低於今年第三季。」
第三季產品重點回顧
• 新一代的深紫外光浸潤式微影系統TWINSCAN NXT:1980於本季完成2台出貨。其疊對(overlay) 誤差改善了30%，達到1.2奈米；在對焦一致性(focus uniformity)方面的效能也提升40%，達到10nm以下。新一代NXT:1980浸潤式微影系統不僅能支援多重曝光(multiple-patterning) 對於效能表現的嚴苛要求，其每小時的晶圓產量 (wafer per hour) 也提高到275片，較上一代提升10%。
• 在整合微影 (Holistic Lithography) 產品方面，所有製程領先的客戶均在其浸潤式多重曝光製程中採用ASML的製程窗口 (process window) 強化解決方案來取得1x奈米製程節點的最佳良率。此外，客戶也評估在關鍵層中採用ASML的EUV技術和NXE光源光罩優化(source-mask optimization) 軟體，來發展下一代先進晶片製程。ASML已經在7奈米和5奈米邏輯節點和1x奈米記憶體製程中，持續改善製程窗口 (process window) 和臨界尺寸均勻度 (CD uniformity) 。
• 第一台NXE:3350B EUV系統已在本季完成出貨。該系統在疊對精度 (overlay) 和晶圓吞吐量方面皆較前一代提升。
• 新一代的深紫外光浸潤式微影系統TWINSCAN NXT:1980於本季完成2台出貨。其疊對(overlay) 誤差改善了30%，達到1.2奈米；在對焦一致性(focus uniformity)方面的效能也提升40%，達到10nm以下。新一代NXT:1980浸潤式微影系統不僅能支援多重曝光(multiple-patterning) 對於效能表現的嚴苛要求，其每小時的晶圓產量 (wafer per hour) 也提高到275片，較上一代提升10%。
• 在整合微影 (Holistic Lithography) 產品方面，所有製程領先的客戶均在其浸潤式多重曝光製程中採用ASML的製程窗口 (process window) 強化解決方案來取得1x奈米製程節點的最佳良率。此外，客戶也評估在關鍵層中採用ASML的EUV技術和NXE光源光罩優化(source-mask optimization) 軟體，來發展下一代先進晶片製程。ASML已經在7奈米和5奈米邏輯節點和1x奈米記憶體製程中，持續改善製程窗口 (process window) 和臨界尺寸均勻度 (CD uniformity) 。
• 第一台NXE:3350B EUV系統已在本季完成出貨。該系統在疊對精度 (overlay) 和晶圓吞吐量方面皆較前一代提升。
2015年第四季展望
展望2015年第四季，ASML預估銷售淨額 (net sales) 約為14億歐元間，毛利率約45%，研發投資金額約2.7億歐元，其他收入部份(包括來自於客戶共同投資計劃的收入)為2,000萬歐元，而管銷費用 (SG&A) 支出則為9,000萬歐元，實際稅率約11%。
股息及新一波股票回購計畫
基於穩健的財務表現和充沛的現金流量，ASML 在2015年計劃繼續透過股息配發和股票回購計畫將現金回饋給股東。在股票回購部份，ASML計劃在2015-2016年收購以7.5億歐元為上限的股票，以及發放上限330萬股用於員工配股和員工股票認購計畫。相關交易資訊將揭露於ASML企業網站 (www.asml.com/investors) ，並每周更新。
基於穩健的財務表現和充沛的現金流量，ASML 在2015年計劃繼續透過股息配發和股票回購計畫將現金回饋給股東。在股票回購部份，ASML計劃在2015-2016年收購以7.5億歐元為上限的股票，以及發放上限330萬股用於員工配股和員工股票認購計畫。相關交易資訊將揭露於ASML企業網站 (www.asml.com/investors) ，並每周更新。
關於ASML艾司摩爾
總部位於荷蘭的艾司摩爾是全球晶片微影設備的市場領導者。面對摩爾定律所帶來的技術挑戰，艾司摩爾不斷挑戰技術極限，讓終端消費者能夠用合理的價格買到功能越來越強大、尺寸越來越小的電子產品。30年來，艾司摩爾的成功來自於和客戶及供應商緊密合作所共同創造的領先技術、高效能的流程和優秀的員工。為了吸引國際頂尖人才，艾司摩爾致力於提供一個具啟發性的工作環境，讓全球優秀的工程師聚集在此工作、學習和分享。艾司摩爾在全球16個國家設有70個辦公室，員工超過14,000人，在台灣員工超過900人。ASML為荷蘭阿姆斯特丹證券交易所和美國NASDAQ上市公司。
總部位於荷蘭的艾司摩爾是全球晶片微影設備的市場領導者。面對摩爾定律所帶來的技術挑戰，艾司摩爾不斷挑戰技術極限，讓終端消費者能夠用合理的價格買到功能越來越強大、尺寸越來越小的電子產品。30年來，艾司摩爾的成功來自於和客戶及供應商緊密合作所共同創造的領先技術、高效能的流程和優秀的員工。為了吸引國際頂尖人才，艾司摩爾致力於提供一個具啟發性的工作環境，讓全球優秀的工程師聚集在此工作、學習和分享。艾司摩爾在全球16個國家設有70個辦公室，員工超過14,000人，在台灣員工超過900人。ASML為荷蘭阿姆斯特丹證券交易所和美國NASDAQ上市公司。
