2016年7月20日--全球半導體微影技術領導廠商艾司摩爾 (ASML) 今日公佈2016第二季財報。ASML總裁暨執行長溫彼得 (Peter Wennink) 指出 : 「我們今年第二季的單季訂單創下最高紀錄，淨營收(net sales)也來到17.4億歐元，主要貢獻來自於邏輯晶片客戶的訂單，為其10奈米量產做準備，而記憶體客戶需求則維持穩健成長，持續投資DRAM生產和3D NAND產能擴張。第二季淨營收中包括部份認列兩台於2015年第四季出貨的NXE:3350B 極紫外光(EUV)系統收入，金額為1億歐元。我們預估2016年全年營收將超過2015年。在第二季我們取得4台EUV系統的訂單，總計目前我們還有10台EUV系統待出貨，總金額約10億歐元。我們預估下半年將有拿到更多訂單。」
「另外，ASML在二季宣布收購漢微科來強化我們的的全方位微影技術解決方案（包括微影曝光系統、運算微影及量測），以進一步幫助晶片製造商解決進入10奈米以下和3D整合製程的技術挑戰。」
第二季產品重點摘要
深紫外光 (DUV): 新型浸潤式機台TWINSCAN NXT:1980i ArF自產品推出至今已出貨23台，而在客戶端也有5台機台升級到NXT:1980 的規格。此外，我們也將原本的TWINSCAN XT:1460 ArF微影系統升級，可將機台影像疊對效能提升40%，展現我們持續提升乾式微影系統效能的決心。
• 全方位微影優化方案 (Holistic):最新一代的整合式量測系統YieldStar 350E於本季開始陸續出貨給主要客戶，支援其10奈米驗證和量產的需求。同時，ASML也發表最新的製程窗口 (process window) 強化套裝軟體，將幫助客戶未來在7奈米/5奈米邏輯節點和1x奈米記憶體製程上，將EUV和浸潤式微影的生產良率最大化。
極紫外光(EUV): ASML持續提升EUV系統的生產力 (productivity) 和妥善率 (availability)。本季中，一台在客戶端的NXE:3350B EUV系統已經可以達到每天曝光1,200片晶圓的生產力，另一台在ASML的NXE: 3350B則展現每天曝光1,488片晶圓的實力，證明我們有信心在今年底前達到每天曝光1,500晶圓的目標。
第二季財報重點:
2016年第二季營收淨額 (net sales) 17.4億歐元，毛利率 (gross margin) 為42.6%
預估2016第三季營收淨額 (net sales)為17億歐元，毛利率 (gross margin) 47%
預估2016全年營收將再創新高
預估2016全年營收將再創新高
展望2016年第三季，ASML預估整體銷售淨額可達17億歐元，毛利率約47%，研發投資金額維持在2.75億歐元的水準，其他收入部份(包括來自於客戶共同投資計劃的收入)為2,300萬歐元，而管銷費用 (SG&A) 支出則為9,000萬歐元，年化稅率約為12%。
股息及股票回購計畫
基於穩健的財務表現和充沛的現金流量，ASML 在2016年 一月宣布繼續透過股息配發和股票回購計畫將現金回饋給股東。在股票回購部份，ASML原計劃在2016-2017年收購以15億歐元為上限的股票，截至7月3日，ASML已經收購460萬股，約價值3.87億歐元，這些收購的股票將被註銷。由於併購漢微科的程序尚未完成，ASML將目前暫時停止股票回購，但預定於2016-2017年完成的股票回購計畫並未改變，未來則可能視情況暫停、修改或直接中止股票回購計畫。相關交易資訊將揭露於ASML企業網站 (www.asml.com/investors) ，並每周更新。
關於ASML艾司摩爾
總部位於荷蘭的艾司摩爾是全球晶片微影設備的市場領導者。面對摩爾定律所帶來的技術挑戰，艾司摩爾不斷挑戰技術極限，讓終端消費者能夠用合理的價格買到功能越來越強大、尺寸越來越小的電子產品。30年來，艾司摩爾的成功來自於和客戶及供應商緊密合作所共同創造的領先技術、高效能的流程和優秀的員工。為了吸引國際頂尖人才，艾司摩爾致力於提供一個具啟發性的工作環境，讓全球優秀的工程師聚集在此工作、學習和分享。艾司摩爾在全球16個國家設有70個辦公室，員工超過14,000人，在台灣員工逾1,000人。ASML為荷蘭阿姆斯特丹證券交易所和美國NASDAQ上市公司。
更多關於艾司摩爾及其產品、職缺，請參閱 : www.asml.com
