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田中貴金屬開始提供新開發的高品質Au蒸鍍材料「SJeva」樣品

本文作者:田中控股株式會社       點擊: 2018-01-10 11:10
前言:
成功降低產品中的非金屬夾雜物 在半導體及醫療儀器用途上,有助於提升生產性與縮減成本
2018年1月10日--田中控股株式會社(總公司:東京都千代田區、執行總裁:田苗 明)宣布田中貴金屬集團旗下負責製造事業的田中貴金屬工業株式會社(總公司:東京都千代田區、執行總裁:田苗 明)開始提供新開發的高品質Au蒸鍍材料「SJeva」樣品。本蒸鍍材料較以往的產品純度更高,因此能夠減少貴金屬的使用、透過縮短製程提升生產性與降低成本,並提高回收再利用性。
 

 

 

 
本蒸鍍材料藉由改善製造工法,比起過去產品成功地降低蒸鍍材料中所存在的非金屬夾雜物(※1)。田中貴金屬工業本來即齊備純度4N(金含有率99.99%)到5N(金含有率99.999%)的Au蒸鍍材料,本蒸鍍材料為純度更高的產品。透過使用非金屬夾雜物極為稀少的蒸鍍材料,能夠減少蒸鍍材料溶解時凝集於表層的污垢成分,無須再進行清洗。此外,也可縮短高純度蒸鍍材料成膜前的預熱時間(※2),進而抑制無助於成膜的蒸鍍材料的消耗,得以縮減成本。再加上因本蒸鍍材料的氣體成分含有量少,可望帶來抑制成膜時蒸鍍源所產生的飛濺現象(※3)的效果,即使是在進行高速蒸鍍時,亦能降低基板上的顆粒(※4)附著量。
 
由於本蒸鍍材料具有上述特色及優點,對於半導體領域中的細微佈線、MEMS或光學裝置(Optical device)、LED、醫療儀器等使用蒸鍍材料製造的最終成品,可望提升終端用客戶的生產性及有助於縮減成本。
 
本蒸鍍材料的優點
- 減少清洗工序
一般而言蒸鍍材料的形狀依用途而異,有顆粒狀、板狀、帶狀、金屬線狀、粒狀等各式各樣的形狀,皆必須在蒸鍍時進行溶解。溶解時存在於蒸鍍材料中的非金屬夾雜物會凝結形成污垢,因而必須進行清洗。本蒸鍍材料由於材料中所存在的雜質非常少,無須進行清洗,進而可望縮減製程。
 
- 透過縮短成膜前的預熱時間降低成本
高純度蒸鍍材料因可縮短成膜前的預熱時間,能抑制無助於成膜的蒸鍍材料消耗,進而降低成本。
 
- 抑制成膜時由蒸鍍源產生的飛濺現象,降低高速蒸鍍時附著於基板上的顆粒數
飛濺現象是產生於基板或成膜的顆粒與針孔等,蒸鍍時會發生的代表性問題。提高蒸鍍速度的成膜在提升生產效率上是值得期待的,但蒸鍍速度越高就越容易產生飛濺現象,是有待解決的課題。蒸鍍材料中所含的氣體成分是上述問題的起因,而本蒸鍍材料透過改善製造工程也成功降低了氣體成分,因而可望帶來抑制飛濺現象的效果。
 
(※1)非金屬夾雜物:指存在於金屬材料內部的氧化物與硫化物等非金屬物質。
(※2)預熱時間:蒸鍍材料溶解前的預先加熱時間。
(※3)飛濺現象:成膜工程時產生於基板或成膜的顆粒或針孔等缺陷,為蒸鍍時的代表性問題。
(※4)顆粒:指微粒與灰塵。顆粒會造成基板特性、信賴性及良率降低。

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