2018年4月18日--全球半導體微影技術領導廠商艾司摩爾 (ASML) 今日公佈 2018 第一季財報。ASML 第一季營 收淨額 (net sales) 22.9 億歐元，淨收入 5.4 億歐元，毛利率 (gross margin) 為 48.7%。預估2018 第二季營收淨額 (net sales) 將落在 25~26 億歐元之間，毛利率 (gross margin) 約為43%，反映 EUV 營收將大幅增加。
ASML 總裁暨執行長溫彼得 (Peter Wennink) 表示 : 「第一季業績表現強勁，超出預期，主要 來自於大量出貨，以及客戶對於深紫外光(DUV)微影系統和全方位微影方案(Holistic Litho)的 需求。在 EUV 方面，本季我們共完成 3 台 EUV 系統的出貨，而另 1 台則正準備出貨。我們 在第一季獲得 9 台 NXE:3400B 的訂單，也確認 EUV 業務持續成長。近來不同客戶都公開討 論將於今年底前將採用 EUV 進行晶片量產。因此，我們計畫在 2018 年完成 20 台 EUV 系統 出貨，並在 2019 年將 EUV 出貨量拉升到 30 台以上，全力協助客戶達成其量產目標。此外， 關於下一代 High-NA (高數值孔徑) EUV 產品，我們也開始從三個主要客戶方面接到 4 台訂 單，並售出8個High-NA EUV系統的優先購買權 (options)。」
High-NA 是 EUV 微影技術的延伸，其解析度(resolution)和微影疊對(overlay)能力比現行 EUV系統提升 70%，能夠實現業界未來對於幾何式晶片微縮(geometric chip scaling) 的要求。
「這是一個好的開始，我們也樂觀預期 2018 年 ASML 將在業績和獲利能力上持續穩健成 長，」溫彼得說。
第一季產品重點摘要
• 深紫外光 (DUV)微影 : 我們最新的 NXT 機台已經達到每天曝光 6,000 片晶圓的產能里程 碑，支援客戶量產需求。
• 全方位微影方案 (Holistic Lithography) : 本季已完成採用多重電子束技術 (multiple e- beam) 的圖案缺陷量測(pattern fidelity metrology)系統 — ePfm5 出貨。該系統是 ASML 收購漢微科後共同研發的產品，具備更高的解析度以檢測系統缺陷。這項創新的電子束量 測系統和 ASML 的運算式微影(Computational Lithography)軟體結合，能夠在實際製造晶片的過程中，即時提供電子束的反饋給微影系統。ASML 也已經證實多重電子束能夠進一步提升電子束量測的產能，應用於量產階段。
• 極紫外光(EUV)微影 : 吞吐量(throughput)持續提升，在一個客戶端的測試中，達到每小時 曝光 125 片晶圓的量產里程碑，同時在 ASML 的實驗室中展現每小時曝光 140 片晶圓的 實力。
• 深紫外光 (DUV)微影 : 我們最新的 NXT 機台已經達到每天曝光 6,000 片晶圓的產能里程 碑，支援客戶量產需求。
• 全方位微影方案 (Holistic Lithography) : 本季已完成採用多重電子束技術 (multiple e- beam) 的圖案缺陷量測(pattern fidelity metrology)系統 — ePfm5 出貨。該系統是 ASML 收購漢微科後共同研發的產品，具備更高的解析度以檢測系統缺陷。這項創新的電子束量 測系統和 ASML 的運算式微影(Computational Lithography)軟體結合，能夠在實際製造晶片的過程中，即時提供電子束的反饋給微影系統。ASML 也已經證實多重電子束能夠進一步提升電子束量測的產能，應用於量產階段。
• 極紫外光(EUV)微影 : 吞吐量(throughput)持續提升，在一個客戶端的測試中，達到每小時 曝光 125 片晶圓的量產里程碑，同時在 ASML 的實驗室中展現每小時曝光 140 片晶圓的 實力。
展望 2018 年第二季，ASML 預估整體銷售淨額可達 25~26 億歐元，毛利率約落在 43%，反 映 EUV 業務的強勁成長。研發投資金額提高到 3.75 億歐元，而管銷費用 (SG&A) 支出則約1.15 億歐元，目標年化稅率約 14%。
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(Figures in millions of euros unless otherwise indicated) Net sales |
Q4 2017 1 2,561 |
Q1 2018 2,285 |
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...of which Installed Base Management sales 2 |
606 |
617 |
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Other income (Co-Investment Program) |
24 |
0 |
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New lithography systems sold (units) |
48 |
48 |
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Used lithography systems sold (units) |
9 |
1 |
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Net bookings 3 |
2,935 |
2,442 |
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Gross profit |
1,156 |
1,113 |
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Gross margin (%) |
45.2 |
48.7 |
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Net income |
644 |
540 |
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EPS (basic; in euros) |
1.50 |
1.26 |
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End-quarter cash and cash equivalents and short-term investments |
3,288 |
3,194 |
(1) 自 2018 年 1 月 1 日起，ASML 開始採用新的營收認列準則(ASC 606)和租賃準則(ASC 842).
以上第四季的數字尚未調整以在會計準則下反映這些改變
(2) 累積裝機管理(Installed Base Management)銷售額等於淨服務和升級方案(field option)銷售額的加總
(3) 訂單金額不包括新一代 High-NA EUV 訂單
A complete summary of US GAAP Consolidated Statements of Operations is published on www.asml.com
以上第四季的數字尚未調整以在會計準則下反映這些改變
(2) 累積裝機管理(Installed Base Management)銷售額等於淨服務和升級方案(field option)銷售額的加總
(3) 訂單金額不包括新一代 High-NA EUV 訂單
A complete summary of US GAAP Consolidated Statements of Operations is published on www.asml.com
配息(Dividend)及新一波股票回購(Share Buyback)計畫
ASML 已向董事會提出配息方案建議，每股配息 1.4 歐元 (總計 6 億歐元)，並謹訂於 4 月 25日召開年度股東會。2016 年的配息為每股 1.2 歐元。
ASML 在 2018 年 一月宣布劃繼續透過股息配發和股票回購計畫將現金回饋給股東。在股票回 購部份，ASML 計劃在 2018-2019 年收購以 25 億歐元為上限的股票。這些收購的股票中，最多有 240 萬股將被用於員工認股計畫，其餘將被註銷。截至 2018 年 4 月 1 日，ASML 已經收購 100 萬股，約價值 1.7 億歐元。
關於 ASML 艾司摩爾
總部位於荷蘭的艾司摩爾是全球晶片製造設備領導廠商，並且是晶片微影技術的領導者。我們的願景是利用我們的技術讓晶片更小、功能更強大但價格更便宜，讓各種先進的微電子產品成 為可能，以進一步改善人類的生活品質，包括在醫療保健、通訊、能源、交通、科技、娛樂等 各方面。因此，我們的使命就是致力於延續摩爾定律，為半導體產業研發、製造和提供先進的 高科技微影科技、量測技術以及相關軟體解決方案。
總部位於荷蘭的艾司摩爾是全球晶片製造設備領導廠商，並且是晶片微影技術的領導者。我們的願景是利用我們的技術讓晶片更小、功能更強大但價格更便宜，讓各種先進的微電子產品成 為可能，以進一步改善人類的生活品質，包括在醫療保健、通訊、能源、交通、科技、娛樂等 各方面。因此，我們的使命就是致力於延續摩爾定律，為半導體產業研發、製造和提供先進的 高科技微影科技、量測技術以及相關軟體解決方案。
30 多年來，艾司摩爾的成功來自於和客戶及供應商緊密合作所共同創造的領先技術、高效能 的流程和優秀的員工。為了吸引國際頂尖人才，艾司摩爾致力於提供一個具啟發性的工作環 境，讓全球優秀的工程師聚集在此工作、學習和分享。艾司摩爾在全球 16 個國家的 70 個城 市設有辦公室，員工超過 20,000 人，包括台灣員工 2,000 餘人。ASML 為荷蘭阿姆斯特丹證 券交易所和美國 NASDAQ 上市公司。更多關於艾司摩爾及其產品、職缺，請參閱 :www.asml.com
