Mentor，a Siemens business和 Luceda Photonics正與台灣的國家實驗研究院國家晶片系統設計中心(CIC)合作，為以矽光子技術為基礎的積體電路(IC)建立設計流程的全國標準。Mentor的Tanner矽光子設計與佈局工具將作為此流程的基礎。
Mentor和 Luceda已為矽光子的開發建立了一個強韌、創新的設計流程 ─ 矽光子是前景看好且快速興起的技術，它利用光來取代電，以便能更快速地在整個IC中傳輸和處理數據。以 Mentor的 Tanner L-Edit Photonics為基礎，此流程可為先進矽光子IC的開發提供經過驗證和高度可靠的平台。這套解決方案亦整合了 Luceda的 IPKISS.eda技術，可支援光子模擬以及大型光子元件的創建與驗證。針對先進矽光子的驗證，此方案採用了被業界公認為驗證「黃金標準」的Mentor Calibre® nmDRC 和 nmLVS技術。
國家實驗研究院國家晶片系統設計中心主任葉文冠博士表示：「CIC感謝Mentor和Luceda為具策略性重要意義的矽光子IC市場開發此基礎設計流程所做的貢獻。我們相信，此一高度可靠的技術將成為台灣及其他地區IC設計人員的重要基石。」
國家實驗研究院國家晶片系統設計中心是由國科會於1992年成立的，致力於扶植台灣成為全球IC設計的領導者。透過與全球領先的晶圓代工業者、IC公司以及學術機構合作，該機構已為國內培育了充沛的IC設計人才，並為國內外業者開發先進的IC設計流程和服務。
Mentor ICDS事業群總經理 Greg Lebsack表示：「Mentor很高興與CIC分享最新的光子設計實現流程，以協助台灣和整個亞洲地區建立一個強大的矽光子IC設計生態系統。藉由與CIC合作，我們期望能將此先進的設計流程提供給更廣泛的產業和學術界使用。」
關於Tanner
Tanner AMS IC設計流程是類比/混合訊號(AMS) IC設計的完整端到端設計流程。此流程包含高度整合的前端和後端工具，從原理圖擷取、混合訊號模擬和波形探測、到實體佈局與晶圓代工廠相容的實體驗證均涵蓋在內。流程中的所有工具均共享一個通用架構與使用者介面。
這些工具共同組成了一個套件，能與眾多的業界常用工具和業界標準網表互通使用。透過提供晶圓代工廠支援，包括許多通過代工廠驗證的PDK，此套件可將設計風險降至最低。這些工具直覺、易於使用，且因為具平台獨立性，能從任何地方存取，並提供支援 Windows和 Linux的版本。
