2024年1月31日--半導體製造商ROHM(總公司:日本京都市)針對車載設備、工業設備、消費性電子設備等電源電路和保護電路,推出業界最高等級trr*1的100V耐壓蕭特基二極體(以下簡稱 SBD)「YQ系列」。
二極體的種類有很多,其中高效率SBD被廣泛用於各種應用。尤其是溝槽MOS結構的SBD,其VF低於平面結構的SBD,因此可以在整流等應用中提高效率。而普通溝槽MOS結構的產品,其trr比平面結構的差,因此在用於開關應用時出現了功率損耗增加的課題。針對此種課題,ROHM推出採用獨家溝槽MOS結構、同時改善了難以兼顧的VF和IR、實現了業界最高等級trr的YQ系列產品。
「YQ系列」是繼以往支援各種電路應用的4個SBD系列之後推出的新系列產品,也是ROHM首款採用溝槽MOS結構的二極體。該系列利用ROHM獨家結構設計,實現了業界最高等級trr(15ns),與同樣採用溝槽MOS結構的市場競品相比,trr單項的損耗降低約37%,總開關損耗降低約26%,因此有助降低應用產品功耗。另外透過採用溝槽MOS結構,與以往採用平面結構的SBD相比,順向施加時的損耗VF *2和逆向施加時的損耗IR*3均得到改善。這不僅可以降低在整流應用等順向使用時的功率損耗,還可以降低對於SBD而言最令人擔心的熱失控風險*4。這些優勢使該系列產品非常適用於容易發熱的車載LED頭燈的驅動電路、xEV用DC-DC轉換器等需要進行高速開關的應用。
新產品從2023年12月起已全部投入量產(樣品價格:300日元~/個,未稅),樣品也開始透過電商平台銷售。今後ROHM將持續努力提高從低耐壓到高耐壓半導體元件的品質,並繼續加強別具特色的產品陣容,為應用產品進一步實現小型化和低功耗貢獻力量。
<關於SBD的溝槽MOS結構>
溝槽MOS結構是在磊晶片層中形成溝槽(溝槽MOS)並用多晶矽填充的結構,該種結構可以緩和電場集中,從而可以降低磊晶片層的電阻率,在順向施加時VF更低。另外當逆向施加時,可以緩和電場集中現象,從而實現更低的IR。前述的「YQ系列」透過採用此種溝槽MOS結構,與以往產品相比,VF改善了約7%,IR改善了約82%。另一方面,在普通溝槽MOS結構中,寄生電容(元件中的電阻分量)較大,因此trr會比平面結構的差。「YQ系列」不僅改善了VF和IR,而且還利用ROHM獨家結構設計,實現了約15ns的業界最高等級trr。由於可將開關時的損耗降低約26%,因此非常有助降低應用產品功耗。
<應用範例>
・汽車LED頭燈
・xEV用DC-DC轉換器
・工業設備電源
・照明
<產品陣容>
<支援頁面和參考資訊>
ROHM的官網提供了可了解新產品電路優勢的應用指南,以及介紹包括新產品等各SBD系列產品特點的白皮書。在SBD產品頁面中,可以透過輸入耐壓條件等參數來縮小產品範圍,有助設計時順利選擇產品。詳情請至以下網站:
■ROHM SBD產品頁面
■應用指南
《車載小型高效蕭特基二極體「YQ系列」的優勢》
■白皮書
有助車載、工業和消費性電子設備小型化並降低損耗的ROHM SBD產品陣容
<電商銷售資訊>
電商平台:MOUSER、Digi-Key等。
<名詞解釋>
*1) 反向恢復時間:trr(Reverse Recovery Time)
開關二極體從導通狀態到完全關斷狀態所需的時間。該值越低,開關時的損耗越小。
*2)順向電壓:VF(Forward Voltage)
當電流沿從+到-的方向流動時產生的電壓降。該值越低,效率越高。
*3)逆向電流:IR(Reverse Current)
外加逆向電壓時產生的逆向電流。該值越低,功耗(逆功耗)越小。
*4) 熱失控
當向二極體外加逆向電壓時,內部的晶片發熱量超過了封裝的散熱量,導致IR值增加,最終造成損壞的現象稱為熱失控。IR值高的SBD尤其容易發生熱失控,因此在設計電路時需要格外注意。