國際研究暨顧問機構發布最新預測,2012年全球晶圓設備(WFE)支出總計314億美元,較2011年的362億美元下滑了13.3%。儘管晶圓設備市場在2013年可望有所改善,但預期仍不會恢復正成長,預估當年的支出規模為312億美元,較2012年微減0.8%。全球晶圓設備市場直至2014年才有望重回正成長軌道,預估支出規模可望2013年增加15.3%達359億美元。
Gartner研究副總裁Bob Johnson表示,「半導體設備市場展望因總體經濟情勢疲弱不振而衰退。由於晶圓和其他邏輯晶片製造廠增加30奈米以下的生產,全球晶圓設備市場在今年初始表現強勁;然而,新邏輯生產設備的需求會隨著良率提高而趨緩,導致接下來這段時間的出貨量減少。」
晶圓製造廠的產能利用率會在2012年底下滑到80%至83%,預計2013年底前可望緩步提升至約87%。先進製程的產能利用率則會在今年下半年回升到87%到89%,明年將進一步增為90%至93%,可望提供廠商較為樂觀的資本投資環境。
Johnson進一步表示,「儘管導致產量降低的庫存調整期看似將告結束,整體市場疲乏不振仍持續抑制產能利用水準。增加的需求,加上先進製程發展臻至成熟前的低良率,使得先進邏輯IC供應短缺,但仍不足以帶動整體產能利用率回升至期望的水準。在記憶體市場部門,部份供應商甚至減少產量以圖支撐疲弱的市場基本面。」
Gartner認為,記憶體整個2012年的表現會持續疲軟,由於DRAM的投資大幅衰退,加以NAND市場持平。展望2012年之後的市況,分析師預見溫和的成長格局,常態但相當良性的循環周期波動,隨著產業恢復裝置營收的中度個位數成長,以及資本投資相應增加。
由於稍早某些晶圓代工業者成功提高28奈米製程的良率,以及2012年第四季和2013年第一季存有較高的晶圓需求下滑的風險,2012年和2013年的晶圓代工資本支出已遭下修。然而,未來幾年的晶圓代工資本支出(capex)則獲上修,因為業者更積極投入深柴外光微影技術和18吋晶圓的研發。
既然晶圓代工業者在2012年後期的晶圓廠產能利用率減少逾10%,他們很可能會緊縮短期的資本支出。晶圓的需求會下降好幾季,因為半導體裝置景氣下修,再加上儘管28奈米高介電常數金屬閘極(HKMG)製程的良率仍低,但某些晶圓代工大廠已成功提高28奈米低功耗Poly SiON製程的良率。
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