2014年2月24日--全球晶片微影技術領導廠商艾司摩爾 (ASML) 今日證實該公司的NXE:3300B EUV極紫外光(EUV)微影系統在TSMC成功達到單日曝光超過1,000片晶圓的目標，不但再次刷新EUV微影系統生產力新紀錄，更為EUV微影技術用於先進製程量產注入強心針。
在23日於美西舉行的SPIE先進微影論壇中，TSMC研發處長嚴濤南指出 :「在我們近期的一項測試中，成功使用ASML的NXE:3300B 極紫外光微影系統於24小時內，以超過90瓦的穩定光源功率(source power) 連續曝光1,022片晶圓。我們很滿意這項測試結果，而這也讓我們看到ASML EUV微影系統的潛力。」
TSMC曾表示將希望將EUV微影系統用於量產。目前TSMC已安裝2台NXE:3300B極紫外光微影系統，另有2台新一代極紫外光微影系統NXE:3350B將於今年完成出貨。原先已安裝的2台NXE:3300B也將升級到NXE:3350B的效能。
ASML EUV服務及產品行銷副總裁Hans Meiling表示 :「在TSMC完成的這項測試結果不僅證明NXE:3300B極紫外光微影系統的效能無庸置疑，也讓我們對於在2015年底前達成單日曝光1,000片晶圓的目標深具信心。我們將會持續提高光源功率、提升系統妥善率(availability)，並盡力在各個客戶端達到相同的測試結果。」
截至今日，ASML已累計出貨8台NXE:3300B EUV微影系統，並都已於客戶端展現穩定的效能，跨越單日曝光500片晶圓的門檻，間接證明EUV微影系統已可用於10奈米的試產。依據ASML 與晶片製造商共同規劃的EUV微影系統發展進度， 2015年底前必須達到單日曝光1,000片晶圓，2016年底前更必須達到單日曝光1,500片晶圓的生產力，才能符合量產需求。
關於ASML艾司摩爾
總部位於荷蘭的艾司摩爾是全球晶片微影設備的市場領導者。面對摩爾定律所帶來的技術挑戰，艾司摩爾不斷挑戰技術極限，讓終端消費者能夠用合理的價格買到功能越來越強大、尺寸越來越小的電子產品。30年來，艾司摩爾的成功來自於和客戶及供應商緊密合作所共同創造的領先技術、高效能的流程和優秀的員工。為了吸引國際頂尖人才，艾司摩爾致力於提供一個具啟發性的工作環境，讓全球優秀的工程師聚集在此工作、學習和分享。艾司摩爾在全球16個國家設有70個辦公室，員工超過14,000人，在台灣員工超過900人。ASML為荷蘭阿姆斯特丹證券交易所和美國NASDAQ上市公司。更多關於艾司摩爾及其產品、職缺，請參閱 : www.asml.com
