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新思科技Custom Compiler獲台積公司認證

本文作者:新思科技       點擊: 2016-04-14 16:09
前言:
可應用於10奈米及7奈米FinFET製程 並支援業界標準iPDK
2016年4月14日--新思科技(Synopsys)今日宣布新的Custom Compiler™工具已獲得台積公司(TSMC)10奈米FinFET製程以及7奈米先期設計(early design starts)的認證,可支援前述製程必備的技術,包括軌道圖形(track-pattern)支援、著色輔助(coloring assistance)、電荷感知佈線(electrical-aware layout)、EM/IR檢查及寄生參數感知分析(parasitic-aware analysis) 等,並能供雙方客戶使用。
 
新思科技產品行銷副總裁Bijan Kiani表示:「開發Custom Compiler重要的一環便是確保工具能因應台積公司最先進的FinFET製程技術。我們所設計的Custom Compiler不僅能滿足FinFET佈局條件並能加速完成FinFET佈局。」
 
台積公司設計基礎架構行銷事業部資深協理Suk Lee指出,新思科技Custom Compiler通過台積公司10奈米製程節點及7奈米先期設計的認證,同時,藉由iPDK標準,能支援Custom Compiler的PDK也可供使用台積公司FinFET製程節點的共同客戶使用。

關於Custom Compiler
Custom Compiler讓FinFET設計的完成時間從數天縮短至數小時。其自動化視覺輔助設計流程,利用佈局設計人員所熟悉的圖像使用模型(graphical use model),以減少編寫複雜程式碼及限制條件。藉由Custom Compiler,無須額外設定便能自動執行例行性及重複性的任務。Custom Compiler的自動化視覺輔助提供四種輔助工具,包括:佈局(Layout)輔助、設計中(In-Design)輔助、範本(Template)輔助以及協同設計(Co-Design)輔助。佈局輔助可利用使用者導引(user-guided)的佈局繞線自動化,加速完成佈局規劃;設計中輔助透過在signoff驗證之前即擷取物理(physical)及電性(electrical)誤差,以減少設計重複;範本輔助能協助設計人員重複使用既有的客製化佈局技術,讓先前的佈局決策更容易運用在新的設計中;協同設計輔助則結合IC Compiler™與Custom Compiler,提供客製化及數位實作整合解決方案。Custom Compiler乃根據業界標準Open Access資料庫所開發,提供範圍擴及電路圖(schematics)、模擬分析及佈局等開放環境。Custom Compiler與新思科技的電路模擬、實體驗證(physical verification)及數位實作(digital implementation)等工具整合,可提供全面性的客製化設計解決方案。欲知更多關於Custom Compiler的資訊,請造訪
www.customcompiler.info
 
關於新思科技
新思科技是為開發日常所需的電子產品及軟體應用的創新公司提供「矽晶到軟體(Silicon to Software™)」解決方案的合作夥伴。身為全球第16大的軟體公司,新思科技長期以來是全球電子設計自動化(EDA)和半導體IP領域的領導者,同時透過旗下Coverity®解決方案,也成為能提供軟體品質及安全測試的領導廠商。不論是針對開發先進半導體系統單晶片(SoC)的設計工程師,或正在撰寫應用程式且要求高品質及安全性解決方案的軟體開發工程師,新思科技都能提供所需的解決方案,以協助工程師完成創新、高品質並兼具安全性的產品。更多詳情請造訪:
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