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是德科技推出機器學習工具包,加速元件建模與製程設計套件開發

本文作者:是德科技       點擊: 2026-01-27 10:25
前言:
2026年1月27日--是德科技(Keysight Technologies Inc.)宣布於最新版元件建模軟體套件中推出全新機器學習(ML)工具包。此解決方案將模型開發與萃取時間從數週縮短至數小時,加速製程設計套件(PDK)交付,並支援設計製程協同最佳化(DTCO)應用。 
 
半導體產業正經歷快速轉型,驅動因素包括環繞式閘極(GAA)電晶體等先進架構、氮化鎵(GaN)與碳化矽(SiC)等寬能隙材料,以及小晶片與3D堆疊等異質整合策略。這些創新雖提升效能,卻也帶來複雜的建模與參數萃取挑戰。傳統工作流程依賴以物理為基礎的緊湊模型與手動參數萃取,迫使工程師在多種操作條件下調整數百個相互關聯的參數,不僅耗時數週,且往往難以達成最佳結果。隨著產品開發時程日益緊湊,更快速、更具預測性且自動化的AI/ML驅動建模解決方案已成為關鍵需求。
 
是德科技全新推出的ML工具包,透過整合先進神經網路架構,以及ML最佳化技術,在Device Modeling MBP 2026平台中配備ML最佳化器、自動參數萃取流程及相關工具,有效應對上述挑戰。運用此工具包,自動萃取功能可將參數萃取步驟從超過200項縮減至10項以內,從而加速PDK交付、自動化DTCO流程,並縮短產品上市時間。
 
關鍵特性與優勢:
加速參數萃取:將數百個手動步驟縮減為5至6個自動化步驟,單次執行即可實現80多項參數的全域最佳化,捕捉次級效應、溫度變化與動態行為。此解決方案消除重複性手動調校,並提升直流、射頻與大訊號領域的預測準確性。
自動化工作流程:與是德科技的元件建模平台無縫整合,支援基於Python的客製化功能及強大的自動化建模流程。
跨技術擴充性:工作流程可輕鬆適應FinFET、GAA、GaN、SiC及雙極電晶體元件,確保多製程節點間流程的可重複性與可重用性。
提升DTCO效率:加速元件與電路設計間的回饋循環,將PDK開發週期從數週縮短至數日。
 
是德科技EDA事業部總經理Nilesh Kamdar表示:「AI/ML正從根本上重塑緊湊型建模的傳統工作流程與方法論。透過全新的ML工具包,我們使客戶能在更短時間內交付更具預測性、更高品質的模型,進而加速PDK的開發,並協助客戶應對快速演進的半導體技術發展。」
 
透過運用AI/ML驅動的建模技術,是德科技協助半導體企業加速創新、降低開發風險,並在快速變動的市場中保持競爭優勢。更多詳情請參閱是德科技元件建模解決方案。
 
其他是德科技元件建模解決方案的額外強化功能包括:
Device Modeling MQA 2026:新增適用於OMI與MOSRA的老化模型品質保證相關規則。
Device Modeling WaferPro 2025:新增遠端控制功能,可透過A-LFNA進行遠端低頻雜訊量測,以提升靈活性與效率。
A-LFNA 2026:新增低頻雜訊應力測試功能,實現從應力測試到雜訊測試的無縫量測。
 
資源
影片:運用ML簡化與自動化緊湊模型流程
白皮書:透過ML驅動的建模加速半導體創新 
應用說明:運用ML最佳化器加速緊湊模型參數萃取
部落格:從方程式到智慧:將ML最佳化器整合至緊湊模型萃取流程

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機器學習工具包將模型開發時間從數週縮短至數小時。

 

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