陶氏電子材料事業群針對鈰基研磨應用領域推出新CMP 研磨墊產品

2014年3月24日 — 陶氏化學公司(NYSE:DOW)旗下的陶氏電子材料事業群今日推出了IKONIC™ 4000系列的化學機械研磨(CMP)研磨墊產品。該系列研磨墊初期將主要面向鈰基應用。

“業界對於IKONIC™ 技術 的總體反映可謂出奇的好，”陶氏電子材料事業群的CMPT 市場營銷總監Colin Cameron 介紹說。“IKONIC 4000 系列為我們提供了最尖端的產品設計所普遍需要的很多至關重要的屬性。這些研磨墊具備高度的可調性，能夠進行定制以應對特定的要求。陶氏的大批量製造方法以及對於工藝控制的專注確保了我們客戶的工藝過程中的一致性和可靠性，進一步地提高了產品效能。”

新的 IKONIC 4000 系列產品解決了以往在尖端研磨要求和低缺陷率之間的取捨難題。其全新的化學原理在整個研磨墊使用壽命內均可提供穩定的去除速率，使其特別適合用於與鈰基研磨相關的高難度領域。與業界標準IC1000研磨墊相比，IKONIC 4000系列產品在成品缺陷率方面改進了70%。

IKONIC 4000系列產品是陶氏與客戶協作開發的成果，目前可提供多種型號，涵蓋範圍很廣的硬度和孔洞率。籍此可以實現定制以便應對具體的客戶要求。這些研磨墊還進行了優化，以便使研磨墊的修整更為簡便，並使研磨墊在整個使用壽命裡均保持穩定的紋理。

IKONIC 4000系列產品已經成功通過驗證，現在已可提供樣品。

IKONIC CMP 研磨墊簡介

IKONIC 平臺 將一整套獨特的化學特性與靈活的設計密度結合在一起，為客戶提供了範圍很廣的定制解決方案。這些研磨墊旨在改進缺陷率表現，從而提高晶圓良率，並使研磨墊使用壽命更長，從而實現更高的設備使用效率。針對產出量和選擇性方面的要求，IKONIC CMP 研磨墊可以實現廣泛的去除率目標要求，從而滿足工藝方面的需要。選擇 IKONIC 系列的產品亦有助於提高研磨效率和晶圓形貌。這些優點使得IKONIC 研磨墊平臺成為各種高級研磨應用的完美選擇。

關於陶氏電子材料事業群

陶氏電子材料事業群是全球電子業的材料和技術供應商，引領半導體、互連技術、表面處理、光伏技術、顯示器、LED 和光學市場的發展。透過分佈在世界各地的高級技術中心，陶氏優秀的研發科學家團隊和應用專家團隊與客戶密切合作，為新一代的電子技術提供解決方案、產品和技術服務。這種親密的合作關係激發了陶氏的創新發明能力，其關鍵的終端應用領域涵蓋了廣泛的消費類電子產品，諸如個人計算機、電視顯示器、智能手機、平板電腦和其他移動裝置以及各種行業所使用的電子裝置和系統。關於陶氏電子材料的更多資訊，請瀏覽網頁： http://www.dowelectronicmaterials.com。

關於陶氏化學公司

陶氏化學公司 （NYSE: DOW）是一家多元化的化學公司，運用科學和技術的力量，不斷創新，為人類創造更美好的生活。公司透過化學、物理和生物科學的有機結合來推動創新和創造價值，全力解決當今世界的諸多挑戰，如滿足清潔水的需求、實現清潔能源的生產和節約、提高農作物產量等。陶氏以其一體化、市場驅動型、行業領先的特種化學、高新材料、農業科學和塑料等業務，為全球約180個國家和地區的客戶提供種類繁多的產品及服務，應用於包裝、電子產品、水處理、塗料和農業等高速發展的市場。2013年，陶氏年銷售額超過570億美元，在全球擁有約53,000名員工，在36個國家和地區運營201家工廠，產品達6,000多種。除特別注明外，“陶氏”或“公司”均指陶氏化學公司及其附屬公司。有關陶氏的進一步資料，請瀏覽陶氏網頁：

www.dow.com.