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Entegris 擴充 VaporSorb™ 化學濾網系列，適用於防護半導體製程的高階產量

本文作者：Entegris 點擊： 2014-11-06 08:42

前言：

新型化學濾網能夠將化學機械平坦化 (CMP) 製程工具的週遭空氣完全脫酸

2014年11月06日-- Entegris, Inc.（NASDAQ：ENTG）為高要求先進製造環境的提升產量材料與解決方案領導廠商，今日宣佈推出空氣分子污染 (AMC) 化學濾網 VaporSorb™ 系列的新產品。首創「一體成型」單一化學濾網解決方案的新型化學濾網，可在化學機械平坦化製程中捕捉關鍵的空氣分子污染，或是應用於半導體製造中的 CMP 製程。 VaporSorb 是化學濾網的領導品牌，用於製造關鍵步驟的無塵室環境和製程生產機台，是市面上第一款可保護 CMP 製程生產機台不受弱酸和其他污染物所污染的化學濾網。

新型化學濾網是專為 CMP 工具設計，其為單一化學濾網，更為所有關鍵性的空氣分子污染防制提供了平衡性的使用壽命，避免了多重化學濾網的處理。此外，本化學濾網能保持 VaporSorb 品牌領先業界的使用壽命，降低生產機台的停機時間和持有成本。

Entegris AMC 過濾解決方案產品行銷經理 Marc Venetfor 表示：「如同光微影製程，CMP 製程中的產量問題也可藉由提供完整的 AMC 防護來處理。也就是須防止弱酸、以及強酸和其他污染物。 VaporSorb CMP 的單一解決方案，能完全處理 CMP 製程中因空氣分子引起的腐蝕性污染。」

弱酸的例子包括醋酸和甲酸（醋酸鹽；CH3COO- 和甲酸鹽；HCOO-），以及亞硝酸（亞硝酸鹽；NO2-）。強酸包括 HNO3、SO2、H2SO4 和 HCl。這些污染物會在 CMP 製程中產生污染和產量的問題。

公司在 7 月發表了業界第一款「四合一」化學濾網，用於光微影生產機台的 VaporSorb TRK，可捕捉空氣有機物、鹼、強酸和弱酸。 VaporSorb 化學濾網以 Entegris 獨特的混合材料捕捉空氣分子污染物，量身打造應用和晶圓廠特定的化學濾網解決方案。

更多有關 VaporSorb CMP 化學濾網的資訊，請至 www.entegris.com。

關於 Entegris
Entegris 為半導體與其他高科技產業的領導供應商，為這些產業在先進製程提供提高產量材料與解決方案。 Entegris 於 2014 年 4 月 30 日收購美國丹伯里以 CT 為基礎的 ATMI Inc.。Entegris 通過了 ISO 9001 認證，並在美國、中國、法國、德國、以色列、日本、馬來西亞、新加坡、南韓和臺灣設有製造工廠、客戶服務中心或研究基地。更多資訊請參閱 www.entegris.com。

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